[发明专利]一种三跑道全刻蚀平面靶

权利要求书

1.一种三跑道全刻蚀平面靶，包括真空底板(3)和靶底座(5)，其特征在于：所述三跑道全刻蚀平面靶还包括：

靶旋转机构，设在真空底板(3)上，用于控制平面靶旋转，所述靶旋转机构包括贯通固定在真空底板(3)上的真空密封旋转装置(1)，所述真空密封旋转装置(1)包括外壁固定贯通在真空底板(3)上的轴套(19)，轴套(19)内部中心转动连接中心转轴(20)，中心转轴(20)远离靶底座(5)的一端延出到轴套(19)外部设置驱动模块，用于驱动中心转轴(20)转动；以及

组靶机构，设在靶底座(5)上，用于组成平面靶的靶面，所述组靶机构包括固定连接在中心转轴(20)靠近靶底座(5)一端上的连接盘(16)，连接盘(16)顶部固定设置极靴(11)，极靴(11)顶部固定连接若干磁铁(14)，磁铁(14)设置为一块长磁铁棒和两块短磁铁棒且两块短磁铁棒对称垂直分布在长磁铁棒的中部，所述若干磁铁(14)顶部设置铝靶(9)。

2.根据权利要求1所述的一种三跑道全刻蚀平面靶，其特征在于：所述所述三跑道全刻蚀平面靶还包括：

冷却机构，设在靶旋转机构和组靶机构内，用于进行水循环对平面靶进行散热。

3.根据权利要求2所述的一种三跑道全刻蚀平面靶，其特征在于：所述冷却机构包括开设在轴套(19)壳壁上的出水口(19a)和进水口(19b)，还包括固定设在中心转轴(20)中心位置的进水管(12)，进水管(12)和中心转轴(20)的壳壁之间留有回液间隙(18)，回液间隙(18)远离靶底座(5)的一端延伸到出水口(19a)位置，进水管(12)远离靶底座(5)的一端延伸到进水口(19b)位置，出水口(19a)离靶底座(5)的距离小与进水口(19b)离靶底座(5)的距离，所述进水管(12)靠近靶底座(5)的一端延伸到连接盘(16)内，所述连接盘(16)靠近极靴(11)的一侧中心设有蓄水间隙，所述极靴(11)上开设有两种导流孔(10)，一种导流孔(10)位于蓄水间隙的范围内，另一中导流孔(10)位于蓄水间隙的范围外，所述极靴(11)外围设置水槽保护装置(6)，水槽保护装置(6)为环状塑料套，水槽保护装置(6)底部固定连接靶底座(5)，水槽保护装置(6)顶部固定连接铝靶(9)，所述中心转轴(20)位于连接盘(16)和靶底座(5)之间的一段开设有若干回液孔(17)。

4.根据权利要求3所述的一种三跑道全刻蚀平面靶，其特征在于：所述驱动模块包括固定连接在中心转轴(20)端部的第一连接齿轮，所述真空密封旋转装置(1)边侧还设有步进电机(2)，步进电机(2)的输出端固定连接第二连接齿轮，第一连接齿轮啮合连接第二连接齿轮。

5.根据权利要求1或2所述的一种三跑道全刻蚀平面靶，其特征在于：所述靶底座(5)边缘均匀设置若干立柱(4)，立柱(4)对应固定连接在真空底板(3)上，立柱(4)和靶底座(5)的连接位置固定设置有绝缘垫(4a)。

6.根据权利要求5所述的一种三跑道全刻蚀平面靶，其特征在于：所述铝靶(9)和水槽保护装置(6)的接触面之间设有第一密封环(8)，所述连接盘(16)和极靴(11)的接触面之间设有第二密封环(13)，所述水槽保护装置(6)和靶底座(5)的接触面之间设有第三密封环(15)。

7.根据权利要求6所述的一种三跑道全刻蚀平面靶，其特征在于：所述水槽保护装置(6)外围设置有防污装置(7)，防污装置(7)底部固定连接在靶底座(5)上，防污装置(7)顶部开设通口，防污装置(7)为环状金属套。