[发明专利]一种量子点膜的制备方法

权利要求书

1.一种量子点膜的制备方法，其特征在于包括如下步骤：

S1：准备MOF材料；

S2：将反应量的铯源、油酸加入到溶剂十八烯中，在惰性气氛保护下，加热并磁力搅拌至充分反应，制得油酸铯前驱体溶液；

S3：将反应量的MOF材料、PbX₂、油酸、油胺加入到溶剂十八烯中，在加热并磁力搅拌的情况下，抽真空后通惰性气体保护，再将温度升至165 ℃，加入S2制备的油酸铯前驱体溶液，制得CsPbX₃@MOF量子点复合材料；

其中，X为Br和I；

S4：将CsPbBr₃@MOF和CsPbI₃@MOF量子点复合材料与基质树脂、散射粒子、引发剂和稀释剂混合，制得量子点胶水；

S5：将S4中制备的量子点胶水通过狭缝涂布，分别与增亮膜和PET聚酯膜贴合，并在光照的作用下，中间量子点层发生固化，制成量子点膜。

2.如权利要求1所述的量子点膜的制备方法，其特征在于：步骤S4中，CsPbBr₃@MOF的质量为CsPbI₃@MOF的2-8倍。

3.如权利要求1所述的量子点膜的制备方法，其特征在于：所述的基质树脂为环氧树脂、异氰酸酯、聚氨酯、有机硅树脂、聚丙烯酰胺的一种。

4.如权利要求1所述的量子点膜的制备方法，其特征在于：所述的散射粒子为无机粒子或有机粒子，所述无机粒子为Nano-TiO₂、Nano-SiO₂、Nano-GaO₂中的一种，所述有机粒子为丙烯酸类纳米粒子或有机硅类纳米粒子。

5.如权利要求1所述的量子点膜的制备方法，其特征在于：所述的稀释剂为正丁醚、丙酮、丁酮、甲苯、乙腈、乙酸乙酯、乙酸、乙醇、乙酸丁酯的一种。

6.如权利要求1所述的量子点膜的制备方法，其特征在于：所述的引发剂为过氧化苯甲酰、异丙苯过氧化氢、过硫酸钾、偶氮二异庚腈、N，N-二甲基苯胺、过氧化苯甲酰的一种。

7.如权利要求1所述的量子点膜的制备方法，其特征在于，步骤S1中所述MOF材料可选UiO-67、或UiO-66、或MOF-5、或MOF-1、或MOF-74。

8.如权利要求1所述的量子点膜的制备方法，其特征在于，步骤S3中将CsPbX₃@MOF量子点复合材料反应液离心，其沉淀物经正己烷多次洗涤离心，在40 - 60 ℃的温度下真空干燥后得到CsPbX₃@MOF量子点复合材料;

步骤S3中将CsPbX₃@MOF量子点复合材料反应液离心，其沉淀物经正己烷多次洗涤离心，在40 - 60 ℃的温度下真空干燥后得到CsPbX₃@MOF量子点复合材料。