[发明专利]一种下沉式真空腔体在审
申请号: | 202111640869.9 | 申请日: | 2021-12-29 |
公开(公告)号: | CN114481081A | 公开(公告)日: | 2022-05-13 |
发明(设计)人: | 张俊峰;赵子东;许春立;魏庆瑄 | 申请(专利权)人: | 上海子创镀膜技术有限公司 |
主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56;C23C16/54;C23C16/455 |
代理公司: | 上海尊肃专利代理事务所(普通合伙) 31454 | 代理人: | 李珍珍 |
地址: | 201506 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 下沉 空腔 | ||
本发明属于真空镀膜设备技术领域,具体公开了一种下沉式真空腔体,包括底板,底板边沿的顶部均固接有侧板,侧板的顶端设有沿口板,位于左侧的侧板上设有抽气口和支撑臂,四个侧板围成的空腔内下沉有盖板,盖板底部两侧安装有放气挡板,放气挡板两侧均设有一排气孔;盖板的顶部固接有盖板下沉板;盖板下沉板的顶部固接有围板,盖板下沉板的两侧顶部均设有快速放气进气口和软放气进气口;盖板下沉板的顶部固接有盖板翻转臂,盖板翻转臂的一端延伸至围板的外部并与支撑臂连接;位于底板两端的侧板外侧均固接有端板,端板上设有若干固定孔,固定孔内设有紧固螺栓;本发明能够防止充气气流直接充进真空腔体将基片吹起或破碎,且生产效率高。
技术领域
本发明涉及真空镀膜设备技术领域,具体为一种下沉式真空腔体。
背景技术
真空镀膜工艺室是真空镀膜设备的核心部件,各种真空镀膜工艺都必须在真空室中进行。在真空镀膜室中安装不同的功能部件,真空镀膜设备就能实现不同的镀膜工艺。
真空腔体在不影响设备功能的前提下,要尽量减少真空腔体的容积,来加快腔体的抽真空时间,提高生产效率,特别是大型连续真空镀膜设备的进/出口室,设备运行过程中频繁的抽气和放气,而且放气时又要保证大气充入真空室时避免气流充坏基片,目前的设备均存在以上问题,因此,提出一种下沉式真空腔体。
发明内容
本发明的目的在于提供一种下沉式真空腔体,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种下沉式真空腔体,包括底板,所述底板边沿的顶部均固接有侧板,侧板的顶端设有沿口板,位于左侧的所述侧板上设有抽气口和支撑臂,四个所述侧板围成的空腔内下沉有盖板,盖板底部两侧安装有放气挡板,放气挡板两侧均设有一排气孔;所述盖板的顶部固接有盖板下沉板,且盖板下沉板的底部置于沿口板的顶部;所述盖板下沉板的顶部固接有“口”字型的围板,所述盖板下沉板的两侧顶部且于围板内均设有快速放气进气口和软放气进气口;所述盖板下沉板的顶部固接有盖板翻转臂,且盖板翻转臂的一端延伸至围板的外部并与支撑臂活动连接;位于底板两端的侧板外侧均固接有端板,端板上于围板的对应处开设有若干固定孔,且固定孔内活动设有紧固螺栓。
优选的,所述放气挡板呈“U”型结构,且快速放气进气口和软放气进气口的底端均与放气挡板内部连通。
优选的,所述围板远离支撑臂的一侧两端均与端板铰接。
优选的,所述盖板下沉板的底部开设有双密封槽,双密封槽与沿口板对应设置,且双密封槽内均设有密封圈,且密封圈凸出于双密封槽的槽口。
优选的,所述围板的外侧壁与固定孔的对应处开设有连接孔,且连接孔与紧固螺栓的头端连接。
优选的,所述盖板下沉板的顶部于围板的内部设有若干横向加强筋和纵向加强筋,且纵向加强筋固定套接在横向加强筋的顶部。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:
1.本发明中底板、侧板、盖板、盖板下沉板、围板、双密封槽等组装在一起形成真空腔体,通过在腔体内的盖板两侧设置放气挡板,放气挡板两侧各设有一排排气孔,在向真空腔体内充气时,气流通过放气挡板底部缓冲再从两侧排气孔分散到真空腔体内,防止充气直接充进腔体将基片吹起或破碎。
2.本发明中盖板下沉板上设有软放气进气口,先进行小气流充入真空腔体,再进行大气流充入真空腔体,避免充气气流过大吹起基片。
3.本发明中真空腔体中的盖板采用下沉式安装,能够减少真空腔体容积,节约抽真空时间,提高生产效率。
附图说明
图1为本发明的内部结构示意图;
图2为本发明的整体结构示意图;
图3为本发明的底板的结构示意图;
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