[发明专利]一种用于提升LED器件光提取效率的边际湿法处理方法在审
申请号: | 202111643670.1 | 申请日: | 2021-12-29 |
公开(公告)号: | CN114420815A | 公开(公告)日: | 2022-04-29 |
发明(设计)人: | 邓信甫;刘大威;陈丁堃 | 申请(专利权)人: | 上海至纯洁净系统科技股份有限公司;至微半导体(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L33/24 | 分类号: | H01L33/24;H01L21/02;H01L21/306 |
代理公司: | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人: | 竺路玲 |
地址: | 200241 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 提升 led 器件 提取 效率 边际 湿法 处理 方法 | ||
本发明涉及LED器件生产技术领域,具体涉及一种用于提升LED器件光提取效率的边际湿法处理方法,包括:步骤S1:于一基板上形成多个所述LED器件;步骤S2:于所述LED器件的部分表面形成牺牲层,对所述LED器件进行蚀刻,于所述LED器件的侧面形成斜面;步骤S3:对所述LED器件采用第一清洗方法进行清洗,随后对所述LED器件进行干燥处理以完成处理过程。本发明的有益效果在于:通过对LED器件的侧面形成一斜面,减少了LED器件内的全反射光纤,进而提高了LED器件的光提取效率,实现了较现有技术更高的发光效率。
技术领域
本发明涉及LED器件生产技术领域,具体涉及一种LED器件的湿法边际处理方法。
背景技术
LED器件,也称发光二极管,是一种基于电子-空穴复合进而释放出光能的半导体器件。由于LED器件相对于传统发光原理的装置,如白炽灯、荧光灯等具有发光效率更高、寿命更长,因此在各种场合中均得到了广泛的应用,并逐渐取代传统发光装置。
现有技术中,LED器件主要是在硅基、蓝宝石、氮化镓等材质的基板上,通过半导体工艺形成的。但是,在实际实施过程中,发明人发现,现有技术中,基于上述材质制备生产的LED器件,由于其材质的折射率的问题,普遍存在有光提取效率低下的问题。即,现有技术中的LED器件,普遍存在有产生的光线在空气界面处发生反射,进而使得产生的光线无法有效透出器件的问题。这在一定程度上导致了LED器件整体发光效率低下的问题,不利于进一步提高其发光效率、降低功耗。
发明内容
针对现有技术中存在的上述问题,现提供一种用于提升LED器件光提取效率的边际湿法处理方法。
具体技术方案如下:
一种用于提升LED器件光提取效率的边际湿法处理方法,包括:
步骤S1:于一基板上形成多个所述LED器件;
步骤S2:于所述LED器件的部分表面形成牺牲层,对所述LED器件进行蚀刻,于所述LED器件的侧面形成斜面;
步骤S3:对所述LED器件采用第一清洗方法进行清洗,随后对所述LED器件进行干燥处理以完成处理过程。
优选地,所述步骤S2包括:
步骤S21:于所述LED器件的中心一矩形区域内形成所述牺牲层;
步骤S22:对所述LED器件采用湿法蚀刻,以去除所述牺牲层以及所述LED器件于所述矩形区域以外的部分;
步骤S23:对所述LED器件采用第二清洗方法进行清洗,根据一预设的蚀刻面积参数生成新的所述矩形区域,返回所述步骤S21,直至所述斜面形成;
新的所述矩形区域的面积大于原有的所述矩形区域的面积。
优选地,所述基板的材质包括蓝宝石、氮化镓;
所述步骤S2中,所述湿法蚀刻的蚀刻液包括硫酸和磷酸。
优选地,所述步骤S23中,所述第二清洗方法包括:
步骤A1:对所述LED器件采用氨水进行清洗;
步骤A2:采用纯水冲洗所述LED器件;
步骤A3:将环境温度上升至一预定温度。
优选地,所述步骤S3中,所述第一清洗方法包括:
步骤B1:采用纯水冲洗所述LED器件;
步骤B2:采用一酸液清洗所述LED器件;
步骤B3:再次采用所述纯水冲洗所述LED器件。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海至纯洁净系统科技股份有限公司;至微半导体(上海)有限公司,未经上海至纯洁净系统科技股份有限公司;至微半导体(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111643670.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种晶圆洗边蚀刻方法
- 下一篇:一种程序代码生成方法及系统