[发明专利]等离子处理设备有效
申请号: | 202111648858.5 | 申请日: | 2021-12-30 |
公开(公告)号: | CN114360999B | 公开(公告)日: | 2023-06-27 |
发明(设计)人: | 蔡瀚霆;匡友元 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 杨艇要 |
地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子 处理 设备 | ||
本申请实施例公开了一种等离子处理设备,等离子体发生器用于朝第一方向输出等离子体;等离子体发生器、基板载台、框形载台沿第一方向依次设置,等离子体通过基板载台的等离子处理开口输出至基板的待处理表面;其中,容纳腔包括基板载台分割而成的第一腔体和第二腔体,第一腔体和第二腔体通过等离子处理开口连通;其中,当基板设置于基板载台上时,框形载台接触基板载台的表面和基板远离基板载台的表面,以使得第一腔体和第二腔体隔离,从而防止等离子体向待处理基板的待处理表面的背面逸散,可以限定等离子处理的范围,从而提升显示面板的性能。
技术领域
本申请涉及显示领域,具体涉及一种等离子处理设备。
背景技术
有机发光显示面板(Organic Light Emitting Diode,OLED)由于具有结构简单、自发光、响应速度快、超轻薄、低功耗等优点,有机发光显示面板正被各大显示器厂商大力开发。有机发光显示面板生产过程中需要对基板表面进行等离子(plasma)处理来降低接触角,如图1所示,图1为现有技术的等离子处理设备的示意图,图1示意了现有技术中对基板进行等离子处理的过程,等离子体发生器20通过第一进气口21导入气体,通过第一出气口22沿第一方向y向外输出等离子体40,等离子体40轰击在基板30的待处理表面(基板30朝向等离子体发生器20的表面),然而会有一部分等离子体40会通过路径41逸散至基板30的非处理表面(基板30远离等离子体发生器20的表面),即等离子体发生器不能限定等离子处理的范围,当基板30为阵列基板,基板30的非处理表面上设置有发光器件层时,等离子体40会损坏发光器件层的特性,导致有机发光显示面板的器件效率和寿命下降。
因此,当前等离子处理设备存在等离子体会向基板的待处理表面的背面逸散,不能限定等离子处理的范围,降低显示面板的性能。
发明内容
本申请实施例提供了一种等离子处理设备,可以解决现有等离子处理设备存在等离子体会向基板的待处理表面的背面逸散,不能限定等离子处理的范围的问题,导致降低显示面板性能的问题。
本申请实施例提供了一种等离子处理设备,所述等离子处理设备包括壳体和所述壳体内的容纳腔,所述等离子处理设备还包括设置于所述容纳腔内的:
等离子体发生器,设置于所述容纳腔内的一端,所述等离子体发生器用于朝第一方向输出等离子体;
基板载台,沿第一方向设置于所述等离子体发生器的一侧,所述基板载台包括至少一个等离子处理开口,所述等离子体通过所述等离子处理开口输出至基板的待处理表面;
框形载台,沿所述第一方向设置于所述基板载台远离所述等离子体发生器的一侧;
其中,所述容纳腔包括所述基板载台分割而成的第一腔体和第二腔体,所述第一腔体位于所述基板载台和所述等离子体发生器之间,所述第二腔体位于所述基板载台远离所述第一腔体的一侧,所述第一腔体和所述第二腔体通过所述等离子处理开口连通;
其中,当所述基板设置于所述基板载台上时,所述框形载台接触所述基板载台的表面和所述基板远离所述基板载台的表面,以使得所述第一腔体和所述第二腔体隔离。
可选的,在本申请的一些实施例中,所述框形载台包括第一开口和设置于所述第一开口外侧的第一密封圈和第二密封圈,所述第一密封圈和所第二密封圈朝向所述等离子体发生器的一侧设置;
当基板设置于所述基板载台上时,所述第一密封圈接触所述基板远离所述基板载台的表面,所述第二密封圈接触所述基板载台的表面。
可选的,在本申请的一些实施例中,所述第二密封圈设置于所述第一密封圈远离所述第一开口的外侧。
可选的,在本申请的一些实施例中,所述第一密封圈包括朝向所述等离子体发生器设置的第一隔垫件圈;
所述第二密封圈包括朝向所述等离子体发生器设置的至少一个第二隔垫件圈;
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