[发明专利]高精度匹配足弓垫的系统、方法、电子设备及存储介质

权利要求书

1.一种高精度匹配足弓垫的方法，其特征在于，所述方法具体包括：

获取足印；

基于所述足印获取足印外侧轮廓线的外侧公切线段AC、足印内侧轮廓线的内侧公切线段BD和足中轴线；其中，所述外侧公切线段AC与所述足印外侧轮廓线在足掌和足跟处的切点为外掌切点A和外跟切点C；所述内侧公切线段BD与所述足印内侧轮廓线在足掌及足跟处的切点为内掌切点B和内跟切点D；所述足跟中点E为所述外掌切点A和所述内掌切点B连线的中点，所述足掌中点F为所述外跟切点C和所述内跟切点D连线的中点；所述足中轴线为所述足掌中点F和所述足跟中点E的连线；

将外掌切点A和足跟中点E组成的线段AE、足跟中点E和内掌切点B组成的EB、外跟切点C和足掌中点F组成的线段CF和足掌中点F和内跟切点D组成的线段FD分别做6等分并将6等分后得到的点进行连线，得到用于判断的辅助线；

识别足弓边际线；

判断所述辅助线与所述足弓边际线的交叉情况得到所述足印的足型信息；

将所述足型信息结合用户信息参数得到与所述足印相匹配足弓垫。

2.根据权利要求1所述的高精度匹配足弓垫的方法，其特征在于，所述获取足印，包括：

获取用户静态站姿下具有足印的图像；

基于所述图像提取足印，其中，所述足印的足印轮廓线包括足印外侧轮廓线和足印内侧轮廓线。

3.根据权利要求2所述的高精度匹配足弓垫的方法，其特征在于，所述获取足印，还包括：

将足印轮廓线旋转至正常视图角度。

4.根据权利要求3所述的高精度匹配足弓垫的方法，其特征在于，所述获取足印，还包括：

基于所述正常视图角度下所述足印轮廓线区分所述足印轮廓线的左右方向得到左足印和右足印。

5.根据权利要求1所述的高精度匹配足弓垫的方法，其特征在于，所述判断所述辅助线与所述足弓边际线的交叉情况得到所述足印的足型信息，包括：

对所述辅助线进行统一标识，其中，所述辅助线从内侧公切线段BD至外侧公切线段AC依次为第一条辅助线、第二条辅助线、第三条辅助线、第四条辅助线和第五条辅助线。

6.根据权利要求5所述的高精度匹配足弓垫的方法，其特征在于，所述判断所述辅助线与所述足弓边际线的交叉情况得到所述足印的足型信息，还包括：

判断所述足弓边际与所述内侧公切线段BD是否相交，若是，则判断用户的足型为重度扁平足；

当所述足弓边际与所述内侧公切线段BD不相交时，判断所述第一条辅助线和/或所述第二条辅助线与所述足弓边际线是否相交，若是，则判断用户的足型为中度扁平足；

当所述足弓边际线与所述内侧公切线段BD、所述第一条辅助线和所述第二条辅助线不相交时，判断所述第三条辅助线和/或所述第四条辅助线与所述足弓边际线是否相交，若是，则判断用户的足型为轻度扁平足；

当所述足弓边际线与所述内侧公切线段BD、所述第一条辅助线、所述第二条辅助线、所述第三条辅助线和所述第四条辅助线不相交时，判断所述第五条辅助线和/或所述足中轴线是否相交，若是，则判断用户的足型为正常足；

当所述足弓边际线与所述内侧公切线段BD、所述第一条辅助线、所述第二条辅助线、所述第三条辅助线、所述第四条辅助线、所述第五条辅助线和所述足中轴线不相交时，判断用户的足型为高足弓。

7.根据权利要求6所述的高精度匹配足弓垫的方法，其特征在于，所述判断所述辅助线与所述足弓边际线的交叉情况得到所述足印的足型信息，包括：

判断所述足弓边际线是否存在，当所述足弓边际线不存在时，判断用户的足型为高足弓。