[发明专利]光学系统用碳化硅陶瓷材料、反光镜、制备方法及烧结助剂有效

专利信息
申请号: 202111649637.X 申请日: 2021-12-30
公开(公告)号: CN114249595B 公开(公告)日: 2022-11-22
发明(设计)人: 史彦民;徐正平;龙成勇 申请(专利权)人: 扬州北方三山工业陶瓷有限公司
主分类号: C04B35/565 分类号: C04B35/565;G02B5/08;C04B35/64;C04B35/622
代理公司: 扬州润中专利代理事务所(普通合伙) 32315 代理人: 张琳
地址: 225200 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光学系统 碳化硅 陶瓷材料 反光镜 制备 方法 烧结 助剂
【权利要求书】:

1.一种光学系统用碳化硅陶瓷材料,其特征在于,按重量份计,所述碳化硅陶瓷材料包括α-碳化硅微粉65~75份,β-碳化硅微粉25~35份,硼改性水溶性酚醛树脂10~15份,钛酸酯偶联剂0.05~0.15份、分散剂0.1~1份、粘结剂2~7份、润滑剂1~3份及保水剂0.5~1.5份;碳化硅微粉经碱洗二次提纯;所述硼改性水溶性酚醛树脂为摩尔比为2.5~3.5:0.8~1.2:3.5~4.5的苯酚、硼酸以及甲醛在有机溶剂中,在80~120℃温度下经过碱性催化剂催化反应得到;所述碳化硅微粉经碱洗二次提纯的步骤为:将微粉制成含固量为40~60%的浆料,温度为150~180℃,压力为0.3~1.0MPa,与占微粉质量比为0.5~1%的除氧剂混合后进行搅拌反应12-24h;所述除氧剂为质量比为0.5~1:0.5~1的氢氧化钠和氢氧化钾。

2.根据权利要求1所述的光学系统用碳化硅陶瓷材料,其特征在于,所述α-碳化硅微粉和β-碳化硅微粉经过酸洗和碱洗。

3.根据权利要求1所述的光学系统用碳化硅陶瓷材料,其特征在于,所述硼改性水溶性酚醛树脂通过以下方法制备:将苯酚加入甲苯中,然后再加入硼酸和碱性催化剂,充分混合,将反应温度控制在80~100℃,反应时间2-3h,反应结束后,冷却至室温后加入甲醛,充分混合,将反应釜温度控制在100~120℃,反应结束,去除反应溶剂和催化剂,得到棕红色硼改性酚醛树脂。

4.根据权利要求1所述的光学系统用碳化硅陶瓷材料,其特征在于,所述α-碳化硅微粉D50为0.7μm;所述β-碳化硅微粉D50为0.3μm。

5.根据权利要求1所述的光学系统用碳化硅陶瓷材料,其特征在于,所述碳化硅陶瓷材料通过以下方法制备:各组分按照配比进行配料制浆,用喷雾干燥进行浆料造粒,得到陶瓷造粒粉;采用造粒粉风选装置对造粒粉进行筛选;采用干压成型对陶瓷进行预成型,然后再用等静压对陶瓷生坯进行二次处理,与生坯接触的等静压介质温度为70~80℃;然后对碳化硅生坯进行雕刻加工,将生坯加工成所需的形状。

6.一种碳化硅陶瓷材料制备的反射镜,其特征在于,反射镜通过以下方法制备:将如权利要求1所述的碳化硅陶瓷材料制成生坯,制备的生坯经过烧结、表面光学加工,得到反射镜。

7.根据权利要求6所述的碳化硅陶瓷材料制备的反射镜,其特征在于,所述烧结工艺为:(1)从室温升温至1100~1200℃,真空环境烧结,升温速率3~5℃/min,1100~1200℃保温20~30min,1100~1200℃保温结束开始充氢气;

(2)1100~1200℃℃升温至1600~1700℃,氢气气氛烧结,升温速率3~5℃/min,在1600~1700℃保温20~30min,1600~1700℃保温结束,氢气阀关闭,真空泵启动,开始二次抽真空;

(3)1600~1700℃升温至2100~2200℃,真空环境烧结,升温速率3~5℃/min,在2150℃保温20~30min;

(4)在2150℃保温20~30min结束后,压气机启动进行充氩气,充氩结束后再保温90~100min;

(5)保温结束,泄压至常压,然后停炉,随炉冷却,得到碳化硅反射镜毛坯。

8.一种碳化硅陶瓷反射镜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

(1)将α-碳化硅微粉65~75份,β-碳化硅微粉25~35份,硼改性水溶性酚醛树脂10~15份,钛酸酯偶联剂0.05~0.15份、分散剂0.1~1份、粘结剂2~7份、润滑剂1~3份及保水剂0.5~1.5份进行配料制浆,用喷雾干燥进行浆料造粒,得到陶瓷造粒粉;采用造粒粉风选装置对造粒粉进行筛选;采用干压成型对陶瓷进行预成型,然后再用等静压对陶瓷生坯进行二次处理,与生坯接触的等静压介质温度为70~80℃;然后对碳化硅生坯进行雕刻加工,将生坯加工成所需的形状;

(2)采用变气氛烧结工艺对碳化硅陶瓷进行烧结,烧结后得到碳化硅反射镜毛坯;

所述变气氛烧结工艺为:

(2-1)从室温升温至1100~1200℃,真空环境烧结,升温速率3~5℃/min,1100~1200℃保温20~30min,1100~1200℃保温结束开始充氢气;

(2-2)1100~1200℃℃升温至1600~1700℃,氢气气氛烧结,升温速率3~5℃/min,在1600~1700℃保温20~30min,1600~1700℃保温结束,氢气阀关闭,真空泵启动,开始二次抽真空;

(2-3)1600~1700℃升温至2100~2200℃,真空环境烧结,升温速率3~5℃/min,在2150℃保温20~30min;

(2-4)在2150℃保温20~30min结束后,压气机启动进行充氩气,充氩结束后再保温90~100min;

(2-5)保温结束,泄压至常压,然后停炉,随炉冷却,得到碳化硅反射镜毛坯;

(3)将得到的碳化硅反射镜毛坯进行表面光学加工,得到碳化硅反射镜。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于扬州北方三山工业陶瓷有限公司,未经扬州北方三山工业陶瓷有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111649637.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top