[发明专利]显示面板及其制备方法及显示装置在审

专利信息
申请号: 202111651171.7 申请日: 2021-12-29
公开(公告)号: CN114442388A 公开(公告)日: 2022-05-06
发明(设计)人: 李旺;李荣荣 申请(专利权)人: 长沙惠科光电有限公司;惠科股份有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;G02F1/1335
代理公司: 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 代理人: 郑雪梅
地址: 410300 湖南省长*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板 及其 制备 方法 显示装置
【说明书】:

发明公开了一种显示面板及其制备方法及显示装置,所述显示面板具有多个子像素区域,各所述子像素区域包括开关元件和设于所述开关元件一侧的滤光层,所述开关元件包括源极和漏极,多个所述子像素区域包括绿色子像素,在所述绿色子像素中,所述滤光层包括第一滤光层,所述第一滤光层至少覆盖所述源极和所述漏极,且所述第一滤光层的材质包括红色光刻胶和蓝色光刻胶中的至少一种。本发明通过设置至少覆盖源极和漏极的第一滤光层,以解决现有COA产品中绿色子像素的亮点进行暗点化镭射修补时失败率极高的问题。

技术领域

本发明涉及液晶显示面板制造技术领域,具体涉及一种显示面板及其制备方法及显示装置。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)是由阵列玻璃基板(Array)和彩膜玻璃基板(CF)以及两者成盒(cell)而成。传统垂直配向(VA)显示阵列基板包含:基板上形成的栅极信号线(GE)、绝缘层(GI)、非晶硅半导体层(a-si)、源漏极(SD)、钝化层(PV)和像素电极(ITO),彩膜基板包含:遮光层(BM)、红绿蓝彩色滤光片(R/G/B)、共电极(C-ITO)、间隔层(PS)。为了提高开口率,在传统工艺基础上发展出在阵列基板上形成彩色滤光片层(CF onArray-COA)的新型工艺技术。随着产品高解析度高画质要求的发展,COA技术使用越来越广泛。COA工艺过程为在阵列基板上形成钝化层之后,依次形成红绿蓝彩色滤光片层、钝化层或有机绝缘层和像素电极层。行业现有技术大多也将COA与POA(PS on Array)搭配使用,以保证成盒时的对组良率。

对于LCD产品在cell成盒点灯若检查出现画素常亮点,则需要通过激光镭射修补将亮点进行暗点化,在产品品质检查中亮点较暗点更易被察觉,因此将亮点进行暗点化修补,有助于提升产品品质。通常暗点化修补方式是用激光将阵列基板源极或漏极镭射切断,同时将像素电极和共电极熔融连通。

对于COA工艺的LCD产品,在cell镭射修补时,由于已经成盒,激光镭射将源极或漏极切断同时会将RGB彩色滤光片层一起切断,导致其中绿色子像素的亮点进行暗点化镭射修补时,失败率极高,容易出现异物暗和信赖性测试过程中的暗线不良问题。

发明内容

本发明的主要目的是提出一种显示面板及其制备方法及显示装置,通过设置至少覆盖源极和漏极的第一滤光层,以解决现有COA产品中绿色子像素的亮点进行暗点化镭射修补时失败率极高的问题。

为实现上述目的,本发明提出一种显示面板,具有多个子像素区域,各所述子像素区域包括开关元件和设于所述开关元件一侧的滤光层,所述开关元件包括源极和漏极,多个所述子像素区域包括绿色子像素,在所述绿色子像素中,所述滤光层包括第一滤光层,所述第一滤光层至少覆盖所述源极和所述漏极,且所述第一滤光层的材质包括红色光刻胶和蓝色光刻胶中的至少一种。

可选地,各所述子像素区域具有开口区和位于所述非开口区的一侧的非开口区,所述源极和所述漏极位于所述非开口区内;

在所述绿色子像素中,所述滤光层还包括第二滤光层,所述第二滤光层覆盖所述开口区设置,所述第二滤光层的材质包括绿色光刻胶。

可选地,所述第一滤光层覆盖所述非开口区设置。

可选地,多个所述子像素区域还包括红色子像素,在所述红色子像素中,所述滤光层的材质包括红色光刻胶,且所述滤光层同时覆盖所述开口区和所述非开口区设置。

可选地,多个所述子像素区域还包括蓝色子像素,在所述蓝色子像素中,所述滤光层的材质包括蓝色光刻胶,且所述滤光层同时覆盖所述开口区和所述非开口区设置。

此外,本发明还提出一种显示面板的制备方法,所述显示面板的制备方法包括以下步骤:

提供衬底基板,所述衬底基板包括衬底以及设置在所述衬底上的开关元件;

在所述衬底基板的表面设置滤光层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长沙惠科光电有限公司;惠科股份有限公司,未经长沙惠科光电有限公司;惠科股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111651171.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top