[发明专利]一种全彩Micro-LED及其制备方法和显示装置

权利要求书

1.一种全彩Micro-LED的制备方法，其特征在于，包括：

提供单色Micro-LED阵列，所述单色Micro-LED阵列包括多个Micro-LED芯片，所述多个Micro-LED芯片之间设置有隔离墙，以使所述多个Micro-LED芯片各自独立；

制备量子点色转换层，所述量子点色转换层的制备过程包括：

在透明基板上制备增粘剂层；

在所述增粘剂层上制备规则排布的红色量子点和绿色量子点，以形成多个量子点重复单元，每个所述量子点重复单元包括一红色量子点、一绿色量子点和空白点，得到所述量子点色转换层；

将所述量子点色转换层倒置粘合在所述单色Micro-LED阵列上，以使每个所述量子点重复单元中的红色量子点、绿色量子点和空白点分别对应朝向所述Micro-LED芯片设置。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述在透明基板上制备增粘剂层之前还包括：

在所述透明基板上镀彩色滤光膜；

对所述彩色滤光膜进行分区刻蚀形成规则排布的彩色滤光膜，以使所述红色量子点和所述绿色量子点制备在所述规则排布的彩色滤光膜上。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述在透明基板上制备增粘剂层，包括：

在所述透明基板表面以800～1200r/min的转速旋涂增粘剂20～40s，得到涂有增粘剂的透明基板；

将所述涂有增粘剂的透明基板置于真空烘箱加热固化，得到所述增粘剂层。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述将所述涂有增粘剂的透明基板置于真空烘箱加热固化，得到所述增粘剂层，包括：

先将所述涂有增粘剂的透明基板置于真空烘箱5～20min；

加热所述真空烘箱至100～140℃，加热1～3h使得增粘剂固化得到所述增粘剂层。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述在所述增粘剂层上制备规则排布的红色量子点和绿色量子点，包括：

使用喷墨打印设备通过喷头将不同的量子点溶液以设定速度压到所述增粘剂层上，得到所述规则排布的红色量子点和绿色量子点；

所述喷墨打印设备含有喷头对准系统和量子点溶液装载系统。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述使用喷墨打印设备通过喷头将不同的量子点溶液以设定速度压到所述增粘剂层上之后，还包括：

对打印好的量子点溶液进行烘干处理或低温抽真空处理，以使所述量子点溶液中的良性溶剂蒸发，得到像素级的红色量子点和绿色量子点。

7.根据权利要求1至6任一项所述的制备方法，其特征在于，所述透明基板为玻璃、亚克力板或石英。

8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述单色Micro-LED阵列的制备方法包括：

在LED外延片刻蚀形成露出部分第一半导体层的多个台面，得到P型半导体台面阵列；

在所述台面上沉积电流扩散层；

在所述电流扩散层和所述第一半导体层上沉积金属层，形成电极结构；

在所述金属层上沉积钝化层，并对所述钝化层进行刻蚀，以刻蚀出电极接触孔；

在所述电极接触孔处沉积接触焊盘，形成包括多个Micro-LED芯片的阵列；

在所述多个Micro-LED芯片之间设置隔离墙，得到所述单色Micro-LED阵列。

9.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述隔离墙与所述增粘剂层粘合的一面为粗糙表面。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述隔离墙为黑色光刻胶，所述粗糙表面的制备方法包括：

制备与所述隔离墙位置对应的粗化掩膜版；

通过所述粗化掩膜版部分曝光所述隔离墙；

清洗曝光的黑色光刻胶，形成具有粗糙表面的隔离墙。