[发明专利]氦质谱检漏仪在审
申请号: | 202111657137.0 | 申请日: | 2021-12-30 |
公开(公告)号: | CN114354085A | 公开(公告)日: | 2022-04-15 |
发明(设计)人: | 祝兴好;魏海江;鞠栋杰;李键 | 申请(专利权)人: | 济宁市海富电子科技有限公司 |
主分类号: | G01M3/20 | 分类号: | G01M3/20;B07C5/38 |
代理公司: | 北京博雅睿泉专利代理事务所(特殊普通合伙) 11442 | 代理人: | 王春锋 |
地址: | 272000 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氦质谱 检漏 | ||
1.一种氦质谱检漏仪,其特征在于,包括机架(1)以及设置在所述机架(1)上的上料模组(2),所述上料模组(2)包括:
传送组件(21),所述传送组件(21)包括两个同步带(211),两个所述同步带(211)平行且间隔设置;
定位组件(22),所述定位组件(22)设置于所述传送组件(21)的一端,所述定位组件(22)包括变距气缸(221)以及光电传感器(223),所述变距气缸(221)设置于两个所述同步带(211)之间,所述变距气缸(221)被配置为在垂直于所述同步带(211)的运输面上对放置在所述同步带(211)表面的待检产品进行阻挡;所述光电传感器(223)被配置为检测待检产品的位置信息并传递位置信息至所述传送组件(21);所述定位组件(22)被配置为将待检产品等间距分布。
2.根据权利要求1所述的氦质谱检漏仪,其特征在于,所述定位组件(22)还包括限位件(222),所述变距气缸(221)包括沿所述同步带(211)上表面运动方向依次分布的第一气缸(2211)以及第二气缸(2212),所述第一气缸(2211)被配置为对未分间距的待检产品进行阻挡,所述第二气缸(2212)设置有多个且等间距分布;
所述限位件(222)与所述第二气缸(2212)一一对应,并设置于所述同步带(211)的外侧,所述限位件(222)被配置为在与所述同步带(211)上表面平行的方向上对待检产品进行限位。
3.根据权利要求2所述的氦质谱检漏仪,其特征在于,所述限位件(222)包括:
边挡板(2221),所述边挡板(2221)设置于所述同步带(211)沿输送方向的一侧;
限位气缸(2222),所述限位气缸(2222)设置于所述同步带(211)沿输送方向的另一侧,所述限位气缸(2222)被配置为与所述边挡板(2221)配合对待检产品进行夹持定位。
4.根据权利要求3所述的氦质谱检漏仪,其特征在于,所述定位组件(22)还包括对齐气缸(224),所述对齐气缸(224)与所述限位气缸(2222)位于所述同步带(211)的同一侧,且所述对齐气缸(224)与所述限位气缸(2222)沿所述同步带(211)上表面的运动方向依次分布,所述对齐气缸(224)被配置为与所述边挡板(2221)配合,以使处于所述第一气缸(2211)阻挡状态的待检产品对齐。
5.根据权利要求1所述的氦质谱检漏仪,其特征在于,所述传送组件(21)还包括安装板(2121)以及螺纹杆(2122);
所述安装板(2121)设置有两个,每个所述安装板(2121)上设置有一个所述同步带(211);
所述螺纹杆(2122)垂直穿过两个所述安装板(2121),所述螺纹杆(2122)被配置为调节两个所述安装板(2121)之间的间距。
6.根据权利要求1所述的氦质谱检漏仪,其特征在于,还包括:
氦检模组(3),所述氦检模组(3)包括一个氦质谱仪以及多个氦检模具,多个所述氦检模具均与一个所述氦质谱仪连接,所述氦检模具包括上模具(31)、下模具(32)以及移动组件(33),所述移动组件(33)被配置为将所述下模具(32)从第一位置移动至第二位置,以使下模具(32)位于所述上模具(31)正下方;
下料模组(4)和搬运模组(5),所述搬运模组(5)包括导轨(51)以及吸盘组件(52),所述导轨(51)横跨所述上料模组(2)、氦检模组(3)以及下料模组(4),所述吸盘组件(52)与所述导轨(51)滑动连接,且所述吸盘组件(52)被配置为在所述上料模组(2)、氦检模组(3)以及下料模组(4)之间运输待检产品;
控制模组,所述控制模组被配置为与所述上料模组(2)、氦检模组(3)、下料模组(4)以及搬运模组(5)电连接并用于驱动所述上料模组(2)、氦检模组(3)、下料模组(4)以及搬运模组(5)动作。
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