[发明专利]蒸镀掩模清洗装置以及蒸镀掩模清洗方法

说明书

公开一种蒸镀掩模清洗装置以及蒸镀掩模清洗方法。蒸镀掩模清洗装置包括：处理水缸，盛装浸泡蒸镀掩模的处理水；处理水产生部，将处理水供应于所述处理水缸；处理水供应配管，连接所述处理水缸和所述处理水产生部；以及泡沫产生部，配置于所述处理水供应配管，并使得所述处理水中产生泡沫，所述处理水包括臭氧水、氢水、氨氢水以及碳酸水中的至少一种，所述泡沫包括气泡直径为50μm以下的微泡沫以及气泡直径为1μm以下的纳米泡沫中的至少一种。

技术领域

本发明涉及一种蒸镀掩模清洗装置以及蒸镀掩模清洗方法。

背景技术

显示装置随着多媒体的发展，其重要性增加。顺应于此，使用液晶显示器(LiquidCrystal Display，LCD)、有机发光显示元件(Organic Light Emitting Didode，OLED)、量子点显示器(Quantum-dot Light Emitting Display，QLED)等之类各种种类的显示装置。

在应用所述有机发光显示元件的显示装置的情况下，构成有机发光显示面板的有机发光层、平坦化层或绝缘层等之类有机层由耐化学性弱的有机物质构成，因此可以通过不是现有技术的光刻工艺，而是利用蒸镀掩模，例如FMM(Fine Metal Mask；精细金属掩模)的蒸镀工艺形成。

在如上的蒸镀工艺中，在蒸镀掩模的表面可能残留异物，例如使用于蒸镀的有机物质或清洗物质等，因此必须要求蒸镀掩模的清洗。

发明内容

本发明要解决的课题是提供一种能够有效地清洗残留于蒸镀掩模的异物的蒸镀掩模清洗装置以及蒸镀掩模清洗方法。

本发明的课题不限于以上提及的课题，本领域技术人员可以从下面的记载明确地理解未提及的其它技术课题。

用于解决所述课题的根据一实施例的蒸镀掩模清洗装置包括：处理水缸，盛装浸泡蒸镀掩模的处理水；处理水产生部，将所述处理水供应于所述处理水缸；处理水供应配管，连接所述处理水缸和所述处理水产生部；以及泡沫产生部，配置于所述处理水供应配管，并使得所述处理水中产生泡沫，所述处理水包括臭氧水、氢水、氨氢水以及碳酸水中的至少一种，所述泡沫包括气泡直径为50μm以下的微泡沫以及气泡直径为1μm以下的纳米泡沫中的至少一种。

可以是，所述蒸镀掩模清洗装置还包括配置于所述处理水缸内并与所述处理水供应配管连接的喷嘴以及配置于所述处理水缸内的喷洒部中的至少一个。

可以是，所述蒸镀掩模清洗装置还包括：超纯水供应部，将超纯水供应于所述处理水产生部；处理气体产生部，将处理气体供应于所述处理水产生部；以及浓度测定部，配置于所述处理水供应配管，并测定通过所述处理水供应配管的处理水中的处理物质的浓度。

可以是，所述泡沫包括第一尺寸的第一泡沫以及与所述第一尺寸不同的第二尺寸的第二泡沫，向所述处理水缸内同时供应所述第一泡沫以及所述第二泡沫。

可以是，向所述处理水缸内，在第一预设时间期间供应所述第一泡沫，在与所述第一预设时间不同的第二预设时间期间供应所述第二泡沫。

可以是，所述泡沫产生部包括改变所述泡沫的尺寸的泡沫尺寸改变部。

可以是，所述蒸镀掩模清洗装置包括：有机溶剂缸，盛装清洗液；以及超纯水缸，盛装超纯水。

可以是，所述处理水缸、所述有机溶剂缸以及所述超纯水缸以所述有机溶剂缸、所述处理水缸以及所述超纯水缸的顺序排列。