[发明专利]一种半导体废气处理设备进气口的新型自吸气防堵装置

权利要求书

1.一种半导体废气处理设备进气口的新型自吸气防堵装置，包括自吸气式进气管，其特征在于：所述自吸气式进气管包括位于上方的上管体(1)和位于下方的下管体(2)，所述上管体(1)与下管体(2)之间通过螺栓固定且两者的连接处形成有缓冲腔道(3)，所述上管体(1)的两侧对称开设有导入口一(4)、导入口二(5)，所述导入口一(4)内置有气压传感器(6)，所述下管体(2)的一侧开设有导入口三(7)，所述缓冲腔道(3)的内部活动设置有旋转内环(8)，所述旋转内环(8)的正上方设置有上环(9)，所述上环(9)活动安装于上管体(1)的顶部且与旋转内环(8)之间垂直安装有四组清洁机构，所述清洁机构包括垂直设置的连接杆(10)和固定于连接杆(10)上的剥离片(11)，所述剥离片(11)的内侧与上管体(1)内壁、下管体(2)内壁相接触，所述导入口二(5)的内部通入有惰性N2，所述导入口三(7)的内部通入有高压N2。

2.根据权利要求1所述的一种半导体废气处理设备进气口的新型自吸气防堵装置，其特征在于：所述旋转内环(8)为双层结构且包括外环(12)和内环(13)，所述外环(12)的表面均匀开设有若干组气动槽口(14)，所述气动槽口(14)的两侧对称开设有两组气体导入口(15)，所述气体导入口(15)的内端延伸至内环(13)的内部。

3.根据权利要求2所述的一种半导体废气处理设备进气口的新型自吸气防堵装置，其特征在于：所述气动槽口(14)的左侧呈倾斜状结构且右侧呈弧面结构，所述气动槽口(14)的外端口径大于内端口径。

4.根据权利要求2所述的一种半导体废气处理设备进气口的新型自吸气防堵装置，其特征在于：所述气体导入口(15)的外端与缓冲腔道(3)相连通，所述气体导入口(15)的外端规格大于内端规格，所述气体导入口(15)的底部呈坡面结构。

5.根据权利要求1所述的一种半导体废气处理设备进气口的新型自吸气防堵装置，其特征在于：所述上环(9)的表面内嵌有若干组转子(16)，若干组所述转子(16)与上管体(1)的内壁转动连接。

6.根据权利要求4所述的一种半导体废气处理设备进气口的新型自吸气防堵装置，其特征在于：所述缓冲腔道(3)呈下端呈弧面结构且末端形成有出气口(17)，所述出气口(17)正对气动槽口(14)。

7.根据权利要求1所述的一种半导体废气处理设备进气口的新型自吸气防堵装置，其特征在于：所述剥离片(11)为两段式结构且包括固定于连接杆(10)上的主板(18)和固定于主板(18)外侧的清洁刷(19)，所述清洁刷(19)采用橡胶材料且外端与自吸气式进气管的内壁相接触。