[发明专利]一种显示面板及其制造方法、一种显示装置在审
申请号: | 202111675112.3 | 申请日: | 2021-12-31 |
公开(公告)号: | CN114361145A | 公开(公告)日: | 2022-04-15 |
发明(设计)人: | 张灿源;麦轩伟;朱心宇 | 申请(专利权)人: | 湖北长江新型显示产业创新中心有限公司 |
主分类号: | H01L25/075 | 分类号: | H01L25/075;H01L33/50;H01L21/683 |
代理公司: | 北京允天律师事务所 11697 | 代理人: | 王荣 |
地址: | 430223 湖北省武汉市武汉东湖新技*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示 面板 及其 制造 方法 显示装置 | ||
1.一种显示面板的制造方法,其特征在于,包括:
形成第一转移结构,所述第一转移结构包括依次层叠设置的第一转移基板、第一转移层和多个发光器件;
形成第二转移结构,所述第二转移结构包括依次层叠设置的第二转移基板、第二转移层和光调整层;
键合所述第一转移结构和所述第二转移结构;
剥离所述第一转移基板和所述第一转移层;
将所述发光器件和所述光调整层转移至目标基板。
2.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于,所述光调整层包括量子点色转换层。
3.根据权利要求2所述的制造方法,其特征在于,所述光调整层包括量子点色转换层和色阻层,所述色阻层包括多个色阻单元,所述色阻单元对应所述发光器件,所述量子点色转换层位于所述色阻层远离所述第二转移基板的一侧表面。
4.根据权利要求2所述的制造方法,其特征在于,所述光调整层包括量子点色转换层和光阻挡层,所述量子点色转换层位于所述光阻挡层远离所述第二转移基板的一侧表面。
5.根据权利要求2所述的制造方法,其特征在于,
所述第二转移结构包括第一颜色转移结构和第二颜色转移结构,至少所述第一颜色转移结构和所述第二颜色转移结构的光调整层不同;
所述将所述发光器件和所述光调整层转移至目标基板包括:
分别将所述第一颜色转移结构中的发光器件和光调整层转移至目标基板以及将所述第二颜色转移结构中的发光器件和光调整层转移至目标基板。
6.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于,所述光调整层为光阻挡层。
7.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于,所述第二转移结构还包括粘合层,所述粘合层位于所述光调整层的远离所述第二转移基板的一侧;
所述将所述发光器件和所述光调整层转移至目标基板包括:
将所述发光器件、所述光调整层和所述粘合层转移至目标基板。
8.根据权利要求1-7任意一项所述的制造方法,其特征在于,在键合所述第一转移结构和所述第二转移结构之前,所述方法还包括:
刻蚀所述光调整层,以形成多个光调整部,所述光调整部与所述发光器件对应;
所述将所述发光器件和所述光调整层转移至目标基板包括:
将所述发光器件和所述光调整部共同转移至目标基板。
9.根据权利要求1-7任意一项所述的制造方法,其特征在于,
在将所述发光器件和所述光调整层转移至目标基板之前,所述方法还包括:
刻蚀所述光调整层,以形成多个光调整部,所述光调整部与所述发光器件对应;
所述将所述发光器件和所述光调整层转移至目标基板,包括:
将所述发光器件和所述光调整部共同转移至目标基板。
10.根据权利要求8或9所述的制造方法,其特征在于,当所述光调整层包括光阻挡层时,将所述发光器件和所述光调整部共同转移至目标基板之后,所述方法还包括:
刻蚀去除位于所述发光器件远离所述目标基板一侧表面的光阻挡层,保留位于所述发光器件侧壁的光阻挡层,形成挡墙。
11.根据权利要求1-6任意一项所述的制造方法,其特征在于,所述键合所述第一转移结构和所述第二转移结构包括:
键合所述第一转移结构和所述第二转移结构,利用键合力使所述发光器件至少部分陷入所述光调整层。
12.根据权利要求11所述的制造方法,其特征在于,所述发光器件陷入所述光调整层的深度范围小于所述发光器件的厚度。
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