[发明专利]光刻加工系统及方法

权利要求书

1.光刻加工系统，其特征在于，包括：

光源模块，用于根据待加工样品的加工参数输出激光光束；

能量调节模块，所述能量调节模块与所述光源模块耦合连接，用于对所述激光光束的能量进行调节；

光束调制模块，所述光束调制模块与所述能量调节模块耦合连接，用于对调节后的所述激光光束进行调制；

光束整形模块，所述光束整形模块与所述光束调制模块耦合连接，用于对调制后的所述激光光束进行整形以获得平顶光束；

聚焦模块，与所述光束整形模块耦合连接，所述聚焦模块用于将所述平顶光束调制为线光源，并将所述线光源投射至待加工样品表面；其中，所述聚焦模块包括平凸柱面透镜；

位移模块，所述位移模块用于带动所述待加工样品移动。

2.根据权利要求1所述的光刻加工系统，其特征在于，所述光刻加工系统还包括：

监测模块，所述监测模块与所述聚焦模块耦合连接，用于接收待加工样品表面反射的光线并根据反射光线获取加工信息。

3.根据权利要求1所述的光刻加工系统，其特征在于，所述光刻加工系统还包括：

处理器，所述处理器分别与所述光源模块、光束整形模块和位移模块连接，用于调节所述激光光束的参数、形状和控制所述待加工样品的移动。

4.根据权利要求1所述的光刻加工系统，其特征在于，所述能量调节模块包括：

半波片，所述半波片与所述光源模块耦合连接，用于对所述激光光束的相位进行调制；

格兰激光棱镜，与所述半波片耦合连接，用于对经过所述半波片调制后的所述激光光束进行分光；

挡块，与所述格兰激光棱镜耦合连接。

5.根据权利要求1所述的光刻加工系统，其特征在于，所述光束调制模块包括：

扩束透镜，与所述能量调节模块耦合连接，用于对经过所述能量调节模块调制后的所述激光光束的直径和发散角进行调节；

准直透镜，与所述扩束透镜耦合连接，用于将所述激光光束调制为平行光。

6.根据权利要求1所述的光刻加工系统，其特征在于，所述光束整形模块包括：

空间光调制器，与所述光束调制模块耦合连接，用于接收调制后的所述激光光束并对所述激光光束的光波进行调制；

第一凸透镜，与所述空间光调制器耦合连接，用于对所述激光光束的相位进行调制；

第一反射镜，与所述第一凸透镜耦合连接，用于改变所述激光光束的传输方向；

第二凸透镜，与所述第一反射镜耦合连接，用于对所述激光光束的相位进行二次调制；

偏振片，与所述第二凸透镜耦合连接，用于对二次调制后的所述激光光束进行整形以得到所述平顶光束。

7.根据权利要求2所述的光刻加工系统，其特征在于，所述监测模块包括：

LED光源，用于发出单色光；

图像传感器，用于接收所述待加工样品反射的所述单色光并根据所述单色光获取加工信息。

8.光刻加工方法，其特征在于，包括：

获取待加工样品的加工参数；

根据所述加工参数输出激光光束；

将所述激光光束的能量进行调节并对能量调节后的所述激光光束进行调制；

将调制后的所述激光光束进行整形以得到平顶光束；

将所述平顶光束调制为线光源，并将所述线光源投射至待加工样品表面以对所述待加工样品进行加工；

通过位移模块移动所述待加工样品，以对下一区域进行加工。

9.根据权利要求8所述的光刻加工方法，其特征在于，还包括：

对所述待加工样品进行预处理；

其中，所述预处理包括超声清洗、烘干。

10.根据权利要求8所述的光刻加工方法，其特征在于，所述根据所述加工参数输出激光光束，包括：

获取所述加工参数；

根据所述加工参数确定所述激光光束的光学参数；其中，所述光学参数包括脉宽、波长、重复频率；

根据所述光学参数输出对应的激光光束。