[发明专利]一种旋涡机构及复合分子泵在审

专利信息
申请号: 202111681457.X 申请日: 2021-12-31
公开(公告)号: CN114352553A 公开(公告)日: 2022-04-15
发明(设计)人: 张浩;李兵;李赏 申请(专利权)人: 北京中科科仪股份有限公司
主分类号: F04D19/04 分类号: F04D19/04;F04D29/32;F04D29/54
代理公司: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人: 汤荞赫
地址: 100190 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 旋涡 机构 复合 分子
【说明书】:

发明涉及分子泵技术领域,具体涉及一种旋涡机构及复合分子泵,旋涡机构包括旋涡转子和旋涡定子,旋涡转子适于与驱动轴连接,旋涡定子适于与壳体本体连接,旋涡定子和旋涡转子围合为适于介质流通的旋涡流道,在旋涡转子和旋涡定子的二者之一上设置有若干叠层设置的旋涡叶片,在旋涡转子和旋涡定子二者中的另一个上相对旋涡叶片设置有导流槽,导流槽的延伸方向与旋涡叶片所在平面呈夹角设置。由于导流槽的延伸方向与旋涡叶片所在平面呈夹角设置,可以实现在夹角部位对介质进行急速压缩分流,增气流压强,提高压缩比,同时使气体流动过程中不会发生气体回流的情况,提高抽真空效率和真空度。

技术领域

本发明涉及分子泵技术领域,具体涉及一种旋涡机构及复合分子泵。

背景技术

分子泵是利用高速旋转的转子把动量传输给气体分子,使之获得定向速度,从而被压缩、被驱向排气口后为前级抽走的一种真空泵。半导体的各种生产工艺都需要在分子泵维持的高真空环境下进行,因此对真空系统和真空设备的洁净度也有着很高的要求。在半导体生产制造工艺中,分子泵广泛应用于光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀设备、离子注入机等关键设备。

在现有的复合分子泵中,通过转动件将气体分子输入,再通过固定件来阻止气体分子的返流,如此将气体分子进行层层压缩,达到抽气效果,但在气体分子输送过程中由于压缩比有限,在气体压缩输送过程中容易沿气体流道返流至进气口,导致抽真空效率低和抽真空度差。

发明内容

因此,本发明要解决的技术问题在于克服现有技术中气体分子输送过程中由于压缩比有限,在气体压缩输送过程中容易沿气体流道返流至进气口,导致抽真空效率低和抽真空度差的缺陷。

本发明提供了一种旋涡机构,包括:

旋涡转子和旋涡定子;所述旋涡转子适于与驱动轴连接,所述旋涡定子适于与壳体本体连接,所述旋涡定子和所述旋涡转子围合为适于介质流通的旋涡流道;

若干叠层设置的旋涡叶片,设置在所述旋涡转子和所述旋涡定子的二者之一上;

导流槽,相对所述旋涡叶片设置在所述旋涡转子和所述旋涡定子二者中的另一个上,所述导流槽的延伸方向与所述旋涡叶片所在平面呈夹角设置。

可选地,上述旋涡机构,所述导流槽的延伸方向与所述旋涡叶片所在平面呈垂直设置。

可选地,上述旋涡机构,还包括若干安装槽,相对所述旋涡叶片设置在所述旋涡转子和所述旋涡定子二者中的另一个上,所述安装槽适于所述旋涡叶片的安装;

相邻的所述安装槽通过连接部连接,所述导流槽成型在所述连接部上。

可选地,上述旋涡机构,还包括引流槽,所述引流槽成型在所述安装槽的侧壁面上,所述引流槽与所述导流槽连通,所述引流槽与所述导流槽共同构成所述旋涡流道。

可选地,上述旋涡机构,还包括引流叶片,相对所述旋涡叶片设置在靠近所述旋涡流道的入口侧,所述引流叶片安装在所述安装槽内,所述引流叶片的顶面与所述安装槽的槽底之间留有引流间隙。

本发明还提供了一种复合分子泵,包括:

壳体本体,具有安装空腔,所述壳体本体还具有与所述安装空腔连通的进气口与出气口;

驱动机构,所述驱动机构的驱动轴穿设在所述安装空腔内;

以及上述任一项所述的旋涡机构。

可选地,上述复合分子泵,还包括:

涡轮机构,靠近所述进气口一侧设置,所述涡轮机构包括涡轮转子和涡轮定子;所述涡轮机构的涡轮转子与所述驱动轴连接,所述涡轮机构的涡轮定子与所述壳体本体连接,所述涡轮定子和所述涡轮转子围合为适于介质流通的涡流流道;

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