[发明专利]设施甜樱桃矮砧密植专用树形及其修剪方法有效

专利信息
申请号: 202111681667.9 申请日: 2021-12-30
公开(公告)号: CN114303777B 公开(公告)日: 2023-03-31
发明(设计)人: 朱东姿;代新仁;王甲威;洪坡;刘庆忠;张力思;孙山 申请(专利权)人: 山东省果树研究所
主分类号: A01G17/00 分类号: A01G17/00;A01G7/06
代理公司: 北京东方盛凡知识产权代理有限公司 11562 代理人: 程小芳
地址: 271000 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 设施 樱桃 密植 专用 树形 及其 修剪 方法
【说明书】:

发明提出了一种设施甜樱桃矮砧密植专用树形及其修剪方法,所述修剪方法为,在对设施甜樱桃苗木进行修剪时,控制其新树头不与前一年的树头重复,且使前一年的树头、主干和该年的新树头形成Z字。本发明的设施甜樱桃矮砧密植专用树形的修剪方法,采用“螺旋Z形”的整形修剪方法,可以得到结构简单、树冠紧凑、修剪量轻、通风透光、果实品质好的矮砧密植专用树形,可以最大限度利用土地、光照,增加收益,适于设施内密植栽培。

技术领域

本发明属于设施果树栽培技术领域,具体涉及一种设施甜樱桃矮砧密植专用树形及其修剪方法。

背景技术

目前设施樱桃生产上多采用露天栽培的多主枝分层形、开心形、纺锤形等,这些树形在设施栽培情况下,出现了很多问题,限制了樱桃设施栽培的发展。这些树体大,设施内通风透光条件差,容易滋生各种病害;没有工作通道,果农在修剪、打药、施肥时工作操作难度大,用工量大;果实着色差,影响果实品质。甜樱桃对光照要求高,在良好的光照条件下易成花,结果早,有利于丰产、稳产、优质。在大枝密挤、外围枝量多、冠内通风透光条件差的情况下,内膛小枝和枝组易枯死,出现‘空堂’现象。因此,亟待研究一种新的设施樱桃矮砧密植专用树形,可以在有限的空间内,最大限度利用土地、光照,以使果农获得更大的收益。

发明内容

基于现有技术中的上述问题,本发明提出了一种设施甜樱桃矮砧密植专用树形的修剪方法,可以得到结构简单、树冠紧凑、修剪量轻、通风透光、果实品质好的矮砧密植专用树形,适于设施内栽培。

第一方面,本发明提出了一种设施甜樱桃矮砧密植专用树形的修剪方法,在对设施甜樱桃苗木进行修剪时,控制其新树头不与前一年的树头重复,且使前一年的树头、主干和该年的新树头形成Z字。

本发明的设施甜樱桃矮砧密植专用树形的修剪方法,采用“螺旋Z形”的整形修剪方法,可以得到结构简单、树冠紧凑、修剪量轻、通风透光、果实品质好的矮砧密植专用树形,可以最大限度利用土地、光照,增加收益,适于设施内密植栽培。

作为本发明的具体实施方式,所述的设施甜樱桃矮砧密植专用树形的修剪方法,所述新树头与前一年的树头夹角不小于60°,从而可以使新树头与前一年的树头保持很好的距离,保持树枝通风透光,从而得到很好的果实品质。

作为本发明的具体实施方式,所述设施甜樱桃矮砧密植专用树形的修剪方法,包括如下步骤:

S101:定植一年生甜樱桃苗木,然后在距离地面30cm-40cm处定干;

S102:定植定干后,在中心主干上部3-5个芽,进行刻芽操作,以促进侧芽萌发形成分枝;;

S103:对主干生长出的新稍每隔15cm-20cm实施摘心操作,以促进其下方侧芽的萌发,待所述侧芽生长至长度为15cm-20cm时对其实施摘心操作以扩大树冠;

S104:在定植第一年的冬季修剪所述设施甜樱桃苗木时,疏除过密枝干,并对长度不小于50cm的枝条实施短截,以使其长度不大于50cm;

S105:在定植第一年的冬季修剪时,根据树势对主干进行短截至0.6m-0.8m,并以与所述主干夹角为110°-130°的细弱枝作为树头;

S106:在定植后第二年冬季修剪时对所述设施甜樱桃苗木进行修剪,将其侧枝短截至基部,以促进基部侧芽和/或主干隐芽的萌发;

S107:在定植第二年内的冬季修剪所述设施甜樱桃苗木时,疏除过密枝干,摘除花芽,并对长度不小于50cm的枝条实施短截,以使其长度不大于50cm;S108:根据树势对主干进行短截至0.8m-1.0m,并以与所述主干夹角为110°-130°的细弱枝作为树头;

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