[实用新型]一种晶硅电池片电注入工艺的双通道电注入式抗光衰炉

权利要求书

1.一种晶硅电池片电注入工艺的双通道电注入式抗光衰炉，包括外壳（1），其特征在于：所述外壳（1）底部内壁固定安装有两个水箱（2），所述外壳（1）底部内壁固定安装有底板（3），所述底板（3）位于两个水箱（2）内侧，所述底板（3）顶部设有抗光衰炉本体（4），所述外壳（1）内部设有散热机构；

所述散热机构包括电机（5），所述电机（5）固定安装在外壳（1）一侧，其中一个所述水箱（2）一侧与外壳（1）一侧开设有空腔一，两个所述水箱（2）顶部均固定连接有固定块（6），其中一个所述水箱（2）顶部与其中一个固定块（6）底部开设有空腔二，另一个所述水箱（2）顶部开设有空腔三，所述电机（5）输出轴固定连接有转轴一（7），所述转轴一（7）一端贯穿空腔一和空腔二并延伸至空腔三内部，其中一个所述水箱（2）内部设有转轴二（8），所述转轴二（8）一端延伸至空腔一内部，所述转轴二（8）另一端固定连接有叶轮一（9），转轴一（7）一端固定连接有锥齿轮一（10），所述锥齿轮一（10）位于空腔三内部，所述锥齿轮一（10）一侧设有锥齿轮二（11），所述锥齿轮二（11）与锥齿轮一（10）相啮合，所述锥齿轮二（11）底部固定连接有转轴三（12），所述转轴三（12）底端延伸至另一个水箱（2）内部，所述转轴三（12）底端固定连接有叶轮二（13），两个所述固定块（6）内侧设有往复丝杠（14），所述往复丝杠（14）一端延伸至空腔二内部，所述往复丝杠（14）另一端延伸至另一个固定块（6）一侧，所述往复丝杠（14）外部套设有轴承座（15），所述轴承座（15）与往复丝杠（14）通过滚珠螺母副连接，所述轴承座（15）前端固定连接有衔接块（16），所述轴承座（15）底部设有限位组件。

2.根据权利要求1所述的一种晶硅电池片电注入工艺的双通道电注入式抗光衰炉，其特征在于：两个所述固定块（6）内侧嵌设有齿板（17），所述齿板（17）位于限位组件底部，所述衔接块（16）顶部设有转轴四（18），所述转轴四（18）顶端固定连接有风扇（19），所述转轴四（18）底端贯穿衔接块（16）并延伸至齿板（17）前侧，所述转轴四（18）与衔接块（16）连接处通过轴承活动连接，所述转轴四（18）底端内外部固定套设有齿轮（20），所述齿轮（20）嵌设在齿板（17）内部并与齿板（17）相啮合。

3.根据权利要求1所述的一种晶硅电池片电注入工艺的双通道电注入式抗光衰炉，其特征在于：所述抗光衰炉本体（4）外部套设有散热管（21），所述散热管（21）外端延伸至两个水箱（2）内部，其中一个所述水箱（2）底部固定连接有连通管（22），所述连通管（22）另一端固定连接在另一个水箱（2）底部。

4.根据权利要求1所述的一种晶硅电池片电注入工艺的双通道电注入式抗光衰炉，其特征在于：所述转轴一（7）外部与转轴二（8）外部均固定套设有链轮一（23），所述链轮一（23）位于空腔一内部，两个所述链轮一（23）外部均套设有链条一（24），两个所述链轮一（23）组件通过链条一（24）驱动连接，所述往复丝杠（14）一端外部与转轴一（7）外部均固定套设有链轮二（25），所述链轮二（25）位于空腔二内部，两个所述链轮二（25）外部均套设有链条二（26），两个所述链轮二（25）之间通过链条二（26）驱动连接。

5.根据权利要求1所述的一种晶硅电池片电注入工艺的双通道电注入式抗光衰炉，其特征在于：所述外壳（1）顶部固定嵌设有滤网（27），所述外壳（1）前侧与后侧均开设有多个通风孔（28），所述外壳（1）底部固定连接有两个底座（29）。

6.根据权利要求1所述的一种晶硅电池片电注入工艺的双通道电注入式抗光衰炉，其特征在于：所述电机（5）外部固定连接有保护壳（30），所述保护壳（30）套设在电机（5）外部，所述保护壳（30）顶部与底部均开设有多个散热孔（31）。