[实用新型]基站及清洁系统

权利要求书

1.一种基站，其特征在于，包括：

壳体，包括清洁槽和容纳空间，所述容纳空间设置在所述壳体的下部，所述清洁槽设置在所述容纳空间的下方且与所述容纳空间连通；

清洁部，设置在所述清洁槽中，用于对位于所述容纳空间内的待清洁设备的清洁件进行清洁；

通风流道，设置在所述壳体中，所述通风流道的进风端与驱动装置连接，所述通风流道的出风端延伸至所述容纳空间中且朝向所述清洁槽设置。

2.根据权利要求1所述的基站，其特征在于，还包括：

喷淋部，包括蓄水箱和喷淋头，所述蓄水箱设置在所述壳体中，所述喷淋头与所述蓄水箱连通，所述喷淋头设置在所述容纳空间中且朝向所述清洁槽设置。

3.根据权利要求2所述的基站，其特征在于，所述蓄水箱内设置有电解水器件。

4.根据权利要求1所述的基站，其特征在于，还包括：

排污部，包括污水箱和排污管，所述污水箱设置在所述壳体中，所述排污管一端与所述污水箱连通，所述排污管的另一端与所述清洁槽连通。

5.根据权利要求1至4任一项所述的基站，其特征在于，所述清洁部包括凸条和毛刷，所述凸条和所述毛刷间隔设置在所述清洁槽中。

6.根据权利要求1至4任一项所述的基站，其特征在于，所述通风流道的出风端延伸至所述容纳空间中且与所述清洁槽连通。

7.根据权利要求6所述的基站，其特征在于，所述通风流道的出风端为多个，各所述通风流道的出风端间隔设置。

8.根据权利要求1至4任一项所述的基站，其特征在于，所述清洁槽可拆卸地设置在所述容纳空间下方的所述壳体上；所述容纳空间和/或所述清洁槽中设置有液位传感器；所述清洁槽的侧壁或底部设置有多个开孔，用于收集所述待清洁设备的清洁件上掉落的污物。

9.一种清洁系统，其特征在于，包括：

如权利要求1至8任一项所述的基站；

清洁设备，具有清洁件，所述清洁设备的形状与所述容纳空间适配，所述清洁件的形状与所述清洁槽适配。

10.根据权利要求9所述的清洁系统，其特征在于，所述清洁设备为扫地机或拖地机。