[实用新型]一种蒸镀坩埚保温盖及蒸镀坩埚

说明书

本实用新型提供了一种蒸镀坩埚保温盖及蒸镀坩埚，所述蒸镀坩埚保温盖包括盖板，所述盖板包括第一表面与第二表面，所述第一表面与第二表面相对设置，在所述第一表面的边缘处设有固定凸起形成固定凹槽，在所述第二表面的边缘处设有承接凸起形成承接凹槽，在所述盖板上开设有≥1个贯通孔。在实际使用过程中，先将坩埚本体与坩埚盖固定连接，再将坩埚盖嵌入蒸镀坩埚保温盖的固定凹槽内完成两者的固定连接，使得坩埚盖的上表面覆盖着带有承接凹槽的蒸镀坩埚保温盖，不仅可以防止蒸镀过程中镀膜材料泄漏并沿着坩埚盖和坩埚本体流到机台内部，引起机台的污染，还可以起到保温作用，有效保证坩埚内部的温度均匀稳定。

技术领域

本实用新型属于蒸镀工艺技术领域，具体涉及一种蒸镀坩埚保温盖及蒸镀坩埚。

背景技术

真空蒸镀，简称蒸镀，是指在真空条件下，采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化，粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。蒸镀是使用较早、用途较广泛的气相沉积技术，具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能独特等优点。目前，用于蒸镀的镀膜材料一般为熔点较高的金属材料，这就需要蒸镀过程中用于加热并储存液态镀膜材料的容器需要有良好的耐热性，所以蒸镀一般选用蒸镀坩埚。

如图1所示，传统的蒸镀坩埚包括坩埚本体1和坩埚盖2，坩埚盖2上部设有贯穿型蒸镀孔21，坩埚本体1用于容纳镀膜材料3。在实际蒸镀过程中，将坩埚本体1和坩埚盖2旋紧，镀膜材料3受热后形成蒸汽，通过蒸镀孔21从坩埚本体1逸出，并进一步上升到基片4凝聚成膜。然而，如图2所示，在蒸镀过程中，逸出的镀膜材料3的蒸汽会有少量落在坩埚盖2的上表面，再加上坩埚盖2的温度较低，使得坩埚盖2的上表面会产生镀膜材料3的液滴，随着液滴的逐渐汇聚，会流动至坩埚盖2的边缘并沿着坩埚本体1的侧壁流下滴落在机台上，造成镀膜材料泄漏并引起机台的污染，此外，坩埚盖2一般选用4N5纯钛，保温性能一般，热量容易流失，造成坩埚内部温度不均匀，最终影响镀膜的性能。

虽然现有技术公开了一些防止镀膜材料泄漏的技术方案，但是仅仅针对坩埚本体和坩埚盖之间缝隙的泄漏问题。例如CN207845756U公开了一种蒸镀坩埚和蒸镀装置，包括坩埚体和与所述坩埚体配合设置的坩埚盖，所述坩埚体顶端沿周向向外延伸设有延伸部，还包括多个螺栓，每个所述螺栓依次穿过所述坩埚盖和所述坩埚体的延伸部，所述螺栓底部螺接有垫块，所述垫块与所述延伸部顶止配合，所述延伸部设有第一止旋面，所述垫块上设有与所述第一止旋面配合的第二止旋面。所述蒸镀坩埚通过螺栓和垫块对蒸镀坩埚的坩埚盖和坩埚体进行固定，能够在使用前和使用过程中实现坩埚盖和坩埚体之间的紧固，避免泄漏问题。

CN207749178U公开了一种OLED蒸镀坩埚，包括坩埚主体和与之扣合的盖板，在坩埚主体和盖板上设有气密性的密封结构，所述密封结构包括设在盖板上的盖板凹槽和设置在坩埚主体上且与盖板凹槽相对应的主体凸起，通过改善坩埚盖板和坩埚主体的咬合方式，提高坩埚的气密性，解决蒸镀时坩埚内有机材料蒸气泄漏问题。

CN207552432U公开了一种蒸镀坩埚，通过螺接件将坩埚本体和盖体进行连接，并且坩埚本体和盖体的凸起部插设在凹槽内，使得坩埚本体和盖体之间的密闭性更佳，能够有效防止蒸镀材料泄漏，有效降低了成本，且使得蒸镀效果更佳。

CN207109082U公开了一种蒸发源和蒸镀装置，通过在坩埚本体和坩埚上盖上分别设置的凸结构和凹结构，凸结构与凹结构进行凹凸配合，以实现坩埚上盖与坩埚本体的紧密固定，从而有效防止坩埚上盖和坩埚本体之间出现相对滑动，进而避免蒸发气体出现泄漏。

CN207418852U公开了一种蒸镀坩埚，埚体和埚盖之间设置有可发生热膨胀的金属件，金属件在受热时通过自身的膨胀来挤压埚体和埚盖，以此来消除埚体和埚盖之间的缝隙，使得埚体和埚盖更好地实现密封，避免出现泄漏的问题，防止宕机；另外，坩埚在锁紧螺栓时螺栓的锁紧力也不需要特别大，更方便于组装，同时还能够减少埚盖与螺帽因旋紧挤压而带来的磨损，而蒸镀时螺栓会通过金属件的膨胀对锁紧力进行提升补偿、来保证密封，其实用性更好。