[实用新型]一种晶圆片清洁装置有效

专利信息
申请号: 202120028437.1 申请日: 2021-01-07
公开(公告)号: CN214417245U 公开(公告)日: 2021-10-19
发明(设计)人: 刘姣龙;刘建伟;刘园;武卫;由佰玲;裴坤羽;孙晨光;王彦君;祝斌;常雪岩;杨春雪;谢艳;袁祥龙;张宏杰;刘秒;吕莹;徐荣清 申请(专利权)人: 天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体材料有限公司
主分类号: B08B11/00 分类号: B08B11/00;B08B11/02;B08B1/04;B08B3/02;H01L21/67
代理公司: 天津诺德知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 12213 代理人: 栾志超
地址: 300384 天津市滨海*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 晶圆片 清洁 装置
【权利要求书】:

1.一种晶圆片清洁装置,其特征在于,至少具有:

放置台;

置于所述放置台上的毛刷组件;

贯穿所述放置台并向所述晶圆片下端面喷液的喷淋组件;

以及控制所述晶圆片的吸盘臂;

其中,所述晶圆片的上端面被所述吸盘臂吸附并悬空设置在所述毛刷组件的正上方;

工作时,所述放置台带动所述毛刷组件和所述喷淋组件边旋转边对所述晶圆片下端面进行清洁,同时所述吸盘臂带动所述晶圆片沿所述晶圆片径向晃动。

2.根据权利要求1所述的一种晶圆片清洁装置,其特征在于,所述毛刷组件与所述喷淋组件交替设置在所述放置台上。

3.根据权利要求1或2所述的一种晶圆片清洁装置,其特征在于,所述毛刷组件包括若干由连续设置的毛刷头形成的毛刷条,所述毛刷条以所述放置台圆心为中心向外辐射分布设置。

4.根据权利要求3所述的一种晶圆片清洁装置,其特征在于,所述毛刷条为直线结构,沿所述放置台半径从内向外设置。

5.根据权利要求3所述的一种晶圆片清洁装置,其特征在于,所述毛刷条为弧形结构,沿所述放置台半径同向从内向外扩散分布。

6.根据权利要求4或5所述的一种晶圆片清洁装置,其特征在于,所述喷淋组件包括若干由间隔设置的喷孔形成的喷淋道,所述喷淋道的结构与所述毛刷条结构相适配。

7.根据权利要求6所述的一种晶圆片清洁装置,其特征在于,所述喷淋道数量不大于所述毛刷条数量,且均匀设置在所述放置台上。

8.根据权利要求1-2、4-5、7任一项所述的一种晶圆片清洁装置,其特征在于,所述吸盘臂与所述放置台同轴心设置,且沿所述晶圆片径向同一个方向前后晃动。

9.根据权利要求8所述的一种晶圆片清洁装置,其特征在于,还包括用于隔挡液体飞溅的围挡圈,所述放置台被置于所述围挡圈内,且所述围挡圈最小宽度大于所述放置台直径。

10.根据权利要求9所述的一种晶圆片清洁装置,其特征在于,所述围挡圈结构为圆形四边形或多边形结构。

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