[实用新型]一种旋转消隙装置及副室转动装置有效
申请号: | 202120055539.2 | 申请日: | 2021-01-08 |
公开(公告)号: | CN214305141U | 公开(公告)日: | 2021-09-28 |
发明(设计)人: | 周林伟;沈浩锋;周杰;姚依笛;王谟;朱伟忠 | 申请(专利权)人: | 天通吉成机器技术有限公司 |
主分类号: | F16H55/18 | 分类号: | F16H55/18;C30B15/30;C30B29/06 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 张欣然 |
地址: | 314400 浙江省嘉兴*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 旋转 装置 转动 | ||
本实用新型公开一种旋转消隙装置及副室转动装置,包括回弹装置,回弹装置设置在基座或转臂上,转臂能够相对于基座转动,回弹装置能够与转臂弹性接触,在转臂停止转动之前对转臂施加扭矩,使转臂具有反向转动的趋势消隙齿轮间隙;主动齿轮通过电机带动旋转,主动齿轮与从动齿轮相互啮合传动,从动齿轮与转臂相对固定,当转臂旋转时与回弹装置接触,回弹装置对转臂施加反向的扭矩,始终保持主动齿轮与从动齿轮之间紧密啮合的状态,当转臂停止转动时,在回弹装置的弹力作用下,从动齿轮仍然与主动齿轮紧密啮合接触,消除了从动齿轮因惯性和齿轮间隙造成的位置偏差。
技术领域
本实用新型涉及半导体生产技术领域,更进一步涉及一种旋转消隙装置。此外,本实用新型还涉及一种副室转动装置。
背景技术
单晶硅生产过程中,副室作为存放晶棒的腔体,呈细长的圆筒形结构;副室的下方可对接炉筒,炉筒内加热使多晶硅熔化形成液态,副室上端设置的提升机构带动副室内部的籽晶下降到炉筒内的液体中,多晶硅在籽晶的引导下生长形成固体单晶硅,当单晶硅棒达到一定长度后,提升机构将单晶硅棒向上提升到副室内。
在电机的带动下,副室连同内部的单晶硅棒同步转动,与炉筒分离,副室转动一定角度后,将内部的单晶硅棒移出,空置的副室反向转动,重新移到炉筒的下方,重复上述的单晶硅棒生成过程。
副室与下方的炉筒要保证精准对齐,但由于电机通过齿轮实现传动,两个齿轮相互啮合存在间隙;当电机通过齿轮带动副室转动到位后停止,由于齿之间存在的间隙以及惯性作用,会使副室继续转动微小的角度,由于旋转半径较小,通常可为1~2m,微小的转动角度也会造成停止位置的较大差异,无法确保停止位置精准。
对于本领域的技术人员来说,如何降低齿轮间隙造成停止位置的偏移误差,是目前需要解决的技术问题。
实用新型内容
本实用新型提供一种旋转消隙装置,能够消除转动停止过程中因齿轮间隙造成的位置偏差,具体方案如下:
一种旋转消隙装置,包括回弹装置,所述回弹装置设置在基座或转臂上,所述转臂上固定设置从动齿轮,所述基座上安装主动齿轮,所述主动齿轮由电机带动旋转,啮合带动所述从动齿轮转动,使所述转臂相对于所述基座转动;
所述回弹装置能够对所述转臂施加扭矩,在所述转臂停止转动之前,使所述转臂具有反向转动的趋势保持齿轮紧密啮合消隙齿轮间隙。
可选地,所述回弹装置包括固定座、伸缩杆和弹性件,所述伸缩杆的一端从所述固定座中伸出,所述基座和所述转臂相互靠近转动时,所述伸缩杆向内回缩挤压所述弹性件产生弹性力。
可选地,所述固定座安装在所述基座上,所述转臂上固定安装挡块,所述挡块能够与所述伸缩杆接触挤压。
可选地,所述挡块设置在所述转臂的转轴外表面。
可选地,所述弹性件为螺旋弹簧。
可选地,所述转臂在距离转向位置10~20度范围内时,所述回弹装置对所述转臂施加弹力。
本实用新型还提供一种副室转动装置,包括上述任一项所述的旋转消隙装置。
本实用新型提供一种旋转消隙装置,包括回弹装置,回弹装置设置在基座或转臂上,转臂能够相对于基座转动,回弹装置能够与转臂弹性接触,在转臂停止转动之前对转臂施加扭矩,使转臂具有反向转动的趋势消隙齿轮间隙;主动齿轮通过电机带动旋转,主动齿轮与从动齿轮相互啮合传动,从动齿轮与转臂相对固定,当转臂旋转时与回弹装置接触,回弹装置对转臂施加反向的扭矩,始终保持主动齿轮与从动齿轮之间紧密啮合的状态,当转臂停止转动时,在回弹装置的弹力作用下,从动齿轮仍然与主动齿轮紧密啮合接触,消除了从动齿轮因惯性和齿轮间隙造成的位置偏差。
附图说明
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