[实用新型]显示面板及电子设备有效

专利信息
申请号: 202120083073.7 申请日: 2021-01-13
公开(公告)号: CN214375724U 公开(公告)日: 2021-10-08
发明(设计)人: 胡杨;郭远辉;石侠;高玉杰 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;武汉京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;G02F1/1339;G02F1/1343
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 王辉;阚梓瑄
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板 电子设备
【说明书】:

本公开涉及一种显示面板及电子设备。显示面板可包括对盒设置的阵列基板和对置基板:阵列基板包括扫描线、数据线、第一挡墙及第二挡墙;第一挡墙和第二挡墙分别位于扫描线的相对两侧,且第一挡墙和第二挡墙包括与扫描线同层设置的第一阻挡层和与数据线同层设置的第二阻挡层;第一阻挡层与扫描线在第一方向上的间距小于第二阻挡层与扫描线在第一方向上的间距;对置基板包括隔垫物,隔垫物在第一衬底上的正投影位于扫描线在第一衬底的正投影内,并位于第一挡墙和第二挡墙在第一衬底上的正投影之间;其中,隔垫物靠近第一衬底的表面在第一方向上的尺寸大于第一阻挡层与扫描线在第一方向上的间距。该方案可提高产品质量。

技术领域

本公开涉及显示技术领域,具体而言,涉及一种显示面板及电子设备。

背景技术

随着液晶面板的不断发展,高分辨率的产品被不断开发,但随着像素的增多,容易导致一系列的问题发生,例如:在对液晶面板进行某些压力测试或跌落测试时,容易出现亮点、雪花等亮度不均匀问题;此外,面板中的电极结构极易在制造过程中受到杂质颗粒(Partical)的影响,极易形成断线等不良情况,导致像素失效,降低了产品良率,从而影响产品信赖性和产品质量。

实用新型内容

本公开的目的在于提供一种显示面板及电子设备,进而至少在一定程度上克服由于相关技术的限制和缺陷而导致的一个或者多个问题。

本公开第一方面提供了一种显示面板,其包括对盒设置的阵列基板和对置基板:

所述阵列基板包括第一衬底及形成在所述第一衬底靠近所述对置基板一侧的扫描线、数据线、第一挡墙及第二挡墙;所述数据线在第一方向上延伸,所述扫描线在第二方向上延伸,所述第一方向与所述第二方向相交;所述第一挡墙和所述第二挡墙分别位于所述扫描线在所述第一方向上的相对两侧,且所述第一挡墙和所述第二挡墙均包括与所述扫描线同层设置并相互间隔的第一阻挡层和与所述数据线同层设置并相互间隔的第二阻挡层,所述第二阻挡层在所述第一衬底上的正投影与所述第一阻挡层在所述第一衬底上的正投影存在交叠;所述第一阻挡层与所述扫描线在所述第一方向上的间距为第一间距,所述第二阻挡层与所述扫描线在所述第一方向上的间距为第二间距,所述第二间距大于所述第一间距;

所述对置基板包括第二衬底和位于所述第二衬底靠近所述阵列基板一侧的隔垫物,所述隔垫物靠近所述第一衬底的表面为顶表面,所述隔垫物的顶表面在所述第一衬底上的正投影位于所述扫描线在所述第一衬底的正投影内,并位于所述第一挡墙和所述第二挡墙在所述第一衬底上的正投影之间;且所述隔垫物的顶表面在所述第一方向上的尺寸大于所述第一间距。

在本公开的一种示例性实施例中,所述隔垫物的顶表面在所述第一方向上的尺寸与所述第一间距之间的比值大于等于2。

在本公开的一种示例性实施例中,所述第二阻挡层与所述隔垫物在所述第一方向上的间距为第三间距,所述第三间距与所述隔垫物的顶表面在所述第一方向上的尺寸之间的比值大于等于0.5。

在本公开的一种示例性实施例中,所述第三间距与所述隔垫物的顶表面在所述第一方向上的尺寸之间的比值大于等于1。

在本公开的一种示例性实施例中,所述第三间距与所述数据线在所述第二方向上的尺寸之间的比值为2至4。

在本公开的一种示例性实施例中,所述第二阻挡层在所述第一衬底上的正投影位于所述第一阻挡层在所述第一衬底上的正投影内,且所述第一方向与所述第二方向相垂直。

在本公开的一种示例性实施例中,所述阵列基板还包括形成在所述第一衬底上并在所述第二方向延伸的第一公共线,所述第一公共线与所述扫描线同层设置并相互间隔;

其中,所述第二挡墙的第一阻挡层为所述第一公共线的部分结构。

在本公开的一种示例性实施例中,所述阵列基板还包括多个子像素单元,沿所述第二方向和所述第一方向阵列排布在所述第一衬底上;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;武汉京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;武汉京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202120083073.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top