[实用新型]一种高纯砷的表面清洗装置

说明书

本实用新型公开了一种高纯砷的表面清洗装置，包括清洗箱体、储水箱和安装底座，所述安装底座的下表面四周均固定设置有垫块，所述安装底座的上表面中部固定设置有储水箱，所述储水箱的内部注满水源，且所述储水箱的上表面中部固定设置有支撑台，所述支撑台的上表面固定设置有清洗箱体，该实用新型通过设置有进水管道、排水管道以及储水箱，这样首先利用水泵抽取的水源到达清洗箱体的内部对高纯砷进行清洗，清洗过后的污水又会通过排水管道和过滤机构对污水进行净化过滤，过滤之后的水源又会回流到储水箱的内部进行存放，从而实现了水资源的循环利用，大大减少了清洗所需要的成本，也节省了一定的水资源，提高了装置的实用性能。

技术领域

本实用新型涉及清洗设备技术领域，具体是一种高纯砷的表面清洗装置。

背景技术

高纯砷是一种高纯度(纯度大于99.999％)的砷，为银灰色金属结晶状，质脆而硬，有金属光泽，在潮湿空气中易氧化，属有毒产品，高纯砷主要用来制备砷化镓、砷铝化镓、砷化铟等半导体化合物及高纯合金，在医药卫生、防腐、染料等领域也有着越来越广泛的应用，特别是砷化镓，有着相当广泛的用途，砷化镓是继单晶硅之后的第二代半导体材料，是目前最重要、最具发展前途的化合物半导体材料，也是科学家研究最深入、应用最广泛的半导体材料，砷化镓因其具有禁带宽度大，电子迁移率高等特殊性能，被广泛用于制作二极管、发光二极管、隧道二极管、红外线发射管、激光器以及太阳能电池等，砷化镓还正在微电子领域、光电子、半导体照明领域以及军事工业、宇航工业、计算机等尖端科技领域发挥着越来越大的作用，砷化镓的其它用途也还正在被开发，例如在半导体照明方面，砷在制作之前需要进行清洗以除去表面的灰尘杂质，然而现有的清洗装置仍存在一些的不足之处：

现有的清洗装置只能对砷表面一些灰尘杂质冲洗掉，而对于一些附着在金属砷表面的杂质难以去除，并且现有的清洗装置对于清洗过后形成的污水难以进行过滤，这样直接排放容易造成排水口的堵塞，因此急需提供一种高纯砷的表面清洗装置来解决上述提出的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种高纯砷的表面清洗装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种高纯砷的表面清洗装置，包括清洗箱体、储水箱和安装底座，所述安装底座的下表面四周均固定设置有垫块，所述安装底座的上表面中部固定设置有储水箱，所述储水箱的内部注满水源，且所述储水箱的上表面中部固定设置有支撑台，所述支撑台的上表面固定设置有清洗箱体，所述清洗箱体的上表面转动设置有储料筒，所述储料筒的底端延伸至清洗箱体的内部，且所述储料筒的表面均匀贯穿开设有若干个小孔，所述储料筒的表面固定套接有从动齿轮，且所述储料筒两侧的清洗箱体的上表面分别固定设置有电动推杆和设备箱，所述电动推杆的顶端固定设置有安装板，所述安装板的下表面固定设置有第一电机，所述第一电机位于储料筒的正上方，且所述第一电机的输出端固定设置有搅拌轴，所述搅拌轴两侧的表面皆均匀固定设置有若干个清洗杆，每个所述清洗杆的表面均固定设置有海绵刷，所述设备箱的内部固定设置有第二电机，所述第二电机的输出端固定设置有主动齿轮，所述主动齿轮贯穿设备箱的表面并与从动齿轮相互啮合。

作为本实用新型进一步的方案：所述清洗箱体和储水箱两侧的表面均固定设置有连接头，每个所述连接头分别与清洗箱体和储水箱的内部相互连通，且一侧所述连接头的之间固定设置有进水管道，所述进水管道的之间设置有水泵，所述水泵的两端均固定设置有水管，两端所述水管分别与进水管道的上下端固定连接，上端所述进水管道的表面固定设置有第二控制阀。

作为本实用新型再进一步的方案：另一侧所述连接头的之间固定设置有排水管道，所述排水管道的之间固定设置有过滤机构，且上端所述排水管道的表面固定设置有第一控制阀。