[实用新型]一种掩模版及蒸镀机构有效
申请号: | 202120096070.7 | 申请日: | 2021-01-14 |
公开(公告)号: | CN214361641U | 公开(公告)日: | 2021-10-08 |
发明(设计)人: | 林志斌 | 申请(专利权)人: | 福建华佳彩有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24 |
代理公司: | 福州市景弘专利代理事务所(普通合伙) 35219 | 代理人: | 徐剑兵;林祥翔 |
地址: | 351100 福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 模版 机构 | ||
1.一种掩模版,其特征在于,包括掩模条和掩模框,所述掩模条包括至少一个的第一开口,所述掩模框包括框架和第二开口,所述框架环绕第二开口设置,所述框架的顶部和所述框架的侧壁的连接处设置圆角,所述掩模条设置在框架的顶部上,所述掩模条的侧边绕过框架的圆角并与框架的侧壁相焊接,所述第一开口位于所述第二开口中;
所述掩模条的侧边还通过胶带与框架的侧壁粘合,胶带位于框架上的焊接点远离框架的顶部的一侧。
2.根据权利要求1所述的一种掩模版,其特征在于,所述掩模条为多个,多个的掩膜条均匀设置在所述掩模框上,每个的掩膜条上的第一开口均位于第二开口中。
3.根据权利要求1所述的一种掩模版,其特征在于,所述掩模条为因瓦合金的掩模条。
4.根据权利要求1所述的一种掩模版,其特征在于,所述掩模框为因瓦合金的掩模框;或者:所述掩模框为不锈钢的掩模框。
5.一种蒸镀机构,其特征在于,包括蒸镀单元和掩模版,所述蒸镀单元设置在所述掩模版的底部下方,所述掩模版为权利要求1至4任意一项所述的一种掩模版。
6.根据权利要求5所述的一种蒸镀机构,其特征在于,还包括基板,所述基板设置在掩模条的顶部上。
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