[实用新型]离子源水冷结构及离子源

权利要求书

1.一种离子源水冷结构，其特征在于，包括：连接气体分配片的第一导热平台，连接离子源的阳极的第二导热平台；所述第一导热平台和第二导热平台通过绝缘隔离部件安装在离子源底座上；

所述绝缘隔离部件与所述第一导热平台和第二导热平台的连接部位开设有冷却水路；

所述气体分配片将热量传递至第一导热平台，所述离子源的阳极将热量传递至第二导热平台，所述冷却水路对所述第一导热平台和第二导热平台进行散热。

2.根据权利要求1所述的离子源水冷结构，其特征在于，所述第一导热平台包括形状与气体分配片相匹配的圆形的气体分配片冷却底座；

其中，所述气体分配片冷却底座的中心设有进气管出气口，以所述进气管出气口为中心往四周分布设置了多个气槽，所述气槽用于将工艺气体向气体分配片周围导流。

3.根据权利要求2所述的离子源水冷结构，其特征在于，所述第二导热平台包括形状与绝缘隔离部件相匹配的圆环形的阳极冷却底座；

所述阳极冷却底座与绝缘隔离部件密封连接，所述气体分配片冷却底座与绝缘隔离部件密封连接；所述气体分配片冷却底座与阳极冷却底座密封连接。

4.根据权利要求3所述的离子源水冷结构，其特征在于，所述气体分配片冷却底座和阳极冷却底座为铜导热材料制造的底座结构，通过螺丝固定连接在绝缘隔离部件上。

5.根据权利要求3所述的离子源水冷结构，其特征在于，所述绝缘隔离部件与阳极冷却底座在位于连接面上分别开设有环形的凹槽；

所述气体分配片冷却底座的圆形外侧面分别连接所述凹槽的内侧面；

所述绝缘隔离部件与阳极冷却底座凹槽和气体分配片冷却底座的圆形外侧面构成圆形的冷却水路。

6.根据权利要求5所述的离子源水冷结构，其特征在于，所述气体分配片冷却底座与阳极冷却底座之间通过圆环形的绝缘隔离片密封连接；

所述气体分配片通过石墨片安装到气体分配片冷却底座上，阳极通过石墨片安装到阳极冷却底座上。

7.根据权利要求1所述的离子源水冷结构，其特征在于，所述绝缘隔离部件为采用陶瓷或Peek制造的隔离构件。

8.根据权利要求1所述的离子源水冷结构，其特征在于，所述冷却水路的进水口和出水口设于离子源底座下部，所述冷却水路通过内置在底座内的管道连接所述进水口和出水口。

9.一种离子源，包括离子源底座，外壳，磁铁、气体分配片，阳极；其特征在于，还包括权利要求2-8任一项所述的离子源水冷结构；

所述离子源水冷结构用于分别对所述气体分配片和阳极进行直接水冷散热。

10.根据权利要求9所述的离子源，其特征在于，所述磁铁与离子源底座为一体化嵌入式设计；所述磁铁与气体分配片冷却底座之间设有密封的绝缘空间。