[实用新型]一种光源系统以及投影系统有效
申请号: | 202120145119.3 | 申请日: | 2021-01-19 |
公开(公告)号: | CN215067701U | 公开(公告)日: | 2021-12-07 |
发明(设计)人: | 杜鹏;瞿玉丽;李屹 | 申请(专利权)人: | 深圳光峰科技股份有限公司 |
主分类号: | G03B21/20 | 分类号: | G03B21/20 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 黎坚怡 |
地址: | 518052 广东省深圳市南山区粤*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光源 系统 以及 投影 | ||
1.一种光源系统,其特征在于,包括:
第一发光组件,用于产生第一光束;
匀光系统,设置于所述第一发光组件的出射光路上,用于对所述第一光束进行匀光;
其中,所述第一光束的快轴方向与所述匀光系统的第一方向对应,所述第一光束的慢轴方向与所述匀光系统的第二方向对应,所述第一方向为所述匀光系统的光学扩展量大于预设光学扩展量的方向,所述第二方向为所述匀光系统的光学扩展量小于或等于所述预设光学扩展量的方向。
2.根据权利要求1所述的光源系统,其特征在于,所述第一发光组件包括:
第一激光光源,用于产生第一激光光束;
其中,所述第一激光光源出射的第一激光光束的快轴方向与所述匀光系统的第一方向对应,所述第一激光光源出射的第一激光光束的慢轴方向与所述匀光系统的第二方向对应,所述第一激光光源出射的第一激光光束构成所述第一光束,且所述第一激光光源的出光方式使得入射至所述匀光系统的所述第一光束的光斑在第一方向的填充率增大。
3.根据权利要求1所述的光源系统,其特征在于,所述第一发光组件包括:
第二激光光源,所述第二激光光源用于出射第二激光光束;
角分布控制元件,设置于所述第二激光光源的出射光路上,用于调整所述第二激光光束的出光方向,生成所述第一光束,以使得入射至所述匀光系统的所述第一光束的光斑在第一方向的填充率增大。
4.根据权利要求2或3所述的光源系统,其特征在于,
所述第一方向为所述匀光系统的短边所在的方向,所述填充率为所述光斑在短边的长度与所述匀光系统的宽度之间的比值;在所述填充率大于预设阈值时,所述匀光系统的出口处的光束的角分布连续。
5.根据权利要求3所述的光源系统,其特征在于,
所述角分布控制元件为柱面微透镜阵列或柱面复眼。
6.根据权利要求5所述的光源系统,其特征在于,
入射至所述匀光系统的光束的光斑在所述第一方向的填充率大于预设阈值。
7.根据权利要求3所述的光源系统,其特征在于,
所述角分布控制元件为散射片,所述散射片的散射角大于预设散射角的方向为所述散射片的第一方向,所述散射片的第一方向与所述慢轴方向对应,所述散射片的散射角小于或等于所述预设散射角的方向为所述散射片的第二方向,所述散射片的第二方向与所述快轴方向对应。
8.根据权利要求3所述的光源系统,其特征在于,
所述角分布控制元件为散射片,所述散射片与水平方向之间的夹角为预设角度,其中,所述预设角度为0-90°。
9.根据权利要求3所述的光源系统,其特征在于,所述角分布控制元件包括:
第一柱面镜,设置于所述第一发光组件的出射光路上,用于对所述第一光束在所述快轴方向上进行汇聚;
第二柱面镜,设置于所述第一柱面镜的出射光路上,且与所述第一柱面镜垂直设置,用于对所述第一光束在所述慢轴方向上进行汇聚。
10.根据权利要求1所述的光源系统,其特征在于,所述光源系统还包括:
第二发光组件,用于产生第二光束,所述第二发光组件采用激光激发荧光装置或者LED装置,其中,所述第二光束的光学扩展量大于所述第一光束的光学扩展量;
第一光引导组件,设置于所述第一光束与所述第二光束的光路上,用于将所述第一光束透射至所述匀光系统,且将所述第二光束反射至所述匀光系统。
11.根据权利要求1所述的光源系统,其特征在于,所述匀光系统为方棒或者匀光复眼。
12.一种投影系统,其特征在于,包括3D设备与如权利要求1-11中任一项的光源系统,所述光源系统用于产生照明光束,所述3D设备设置于所述光源光束的光路上,用于基于所述光源照明进行投影显示。
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