[实用新型]光调制器

权利要求书

1.一种光调制器，通过在基板上形成光波导和对在该光波导中传播的光波进行调制的调制电极，并将该基板收容于壳体内而构成，其特征在于，

该光波导至少具备将一个光波分支成两个的光分支部或将两个光波合成为一个的光合成部，

该调制电极具有信号电极和接地电极，并且该信号电极的一部分以横穿该光分支部或该光合成部的方式配置，

所述光调制器具备抑制单元，该抑制单元用于抑制由于横穿该光分支部或该光合成部的该信号电极而导致在该光分支部分支的光波的强度比或在该光合成部合成的光波的强度比发生变化。

2.根据权利要求1所述的光调制器，其特征在于，

设置于该壳体并向该调制电极供给电信号的接口部形成于在通过该光分支部或该光合成部的光波的传播方向上的该光分支部或该光合成部的线对称轴的延长线与该壳体的侧面交叉的位置的附近。

3.根据权利要求1或2所述的光调制器，其特征在于，

该光分支部或该光合成部由Y分支部构成，

该Y分支部具有：一根输入输出用波导，具有与单模对应的波导宽度W；转换用波导，连接于该输入输出用波导，且以波导宽度比所述W宽的波导宽度形成；及两个分支用波导，连接于该转换用波导，

该信号电极横穿该光分支部或该光合成部的位置是该转换用波导，或者是从该转换用波导至下述位置为止的范围以内的两个该分支用波导中的任一个，该位置是两个该分支用波导分隔至两个该分支用波导之间的距离为在该分支用波导中传播的光波的模场直径的三倍的位置。

4.根据权利要求3所述的光调制器，其特征在于，

该抑制单元是设置在该光分支部或该光合成部与该调制电极之间的树脂层。

5.根据权利要求4所述的光调制器，其特征在于，

调制电极与树脂层重叠的部分的长度被设定为调制信号的波长的十分之一以下。

6.根据权利要求3所述的光调制器，其特征在于，

该抑制单元沿着在通过该光分支部或该光合成部的光波的传播方向上的该光分支部或该光合成部的线对称轴配置，相对于该线对称轴具有对称的形状，在该信号电极横穿该光分支部或该光合成部的位置，该信号电极的宽度为在该分支用波导中传播的光波的模场直径的三倍以上。

7.根据权利要求4或5所述的光调制器，其特征在于，

该抑制单元沿着在通过该光分支部或该光合成部的光波的传播方向上的该光分支部或该光合成部的线对称轴配置，相对于该线对称轴具有对称的形状，在该信号电极横穿该光分支部或该光合成部的位置，该信号电极的宽度为在该分支用波导中传播的光波的模场直径的三倍以上。