[实用新型]一种基于双光注入半导体激光器的微波频率梳产生装置有效
申请号: | 202120176414.5 | 申请日: | 2021-01-22 |
公开(公告)号: | CN214176410U | 公开(公告)日: | 2021-09-10 |
发明(设计)人: | 周沛;李坤曦;李念强;杨闯;傅剑斌;刘世锋 | 申请(专利权)人: | 苏州大学 |
主分类号: | H01S5/0687 | 分类号: | H01S5/0687 |
代理公司: | 苏州智品专利代理事务所(普通合伙) 32345 | 代理人: | 王利斌 |
地址: | 215137 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 注入 半导体激光器 微波 频率 产生 装置 | ||
1.一种基于双光注入半导体激光器的微波频率梳产生装置,包括射频信号源(1),其特征在于:所述射频信号源(1)两端分别通过射频信号与第一主激光器(2)、第二主激光器(3)连接,所述第一主激光器(2)与所述第二主激光器(3)远离所述射频信号源(1)的另一端均通过光缆与光耦合器(6)连接,所述光耦合器(6)远离所述第一主激光器(2)与所述第二主激光器(3)的另一端通过光缆与光环行器(9)连接,所述光环行器(9)远离所述光耦合器(6)的另外两端分别通过光缆连接有从激光器(10)与光电探测器(11),所述第一主激光器(2)、所述第二主激光器(3)与所述光耦合器(6)连接的光缆上分别设有第一光衰减器(4)、第一偏振控制器(5)、第二光衰减器(7)与第二偏振控制器(8)。
2.根据权利要求1所述的基于双光注入半导体激光器的微波频率梳产生装置,其特征在于:所述射频信号源(1)调制频率与调制深度用于使所述第一主激光器(2)与所述第二主激光器(3)输出一个微波频率梳的第一种子源与第二种子源。
3.根据权利要求2所述的基于双光注入半导体激光器的微波频率梳产生装置,其特征在于:所述第一种子源注入至所述从激光器(10)中,利用单光注入引起的带宽增强效应,促使所述从激光器(10)产生大带宽的微波频率梳。
4.根据权利要求2所述的基于双光注入半导体激光器的微波频率梳产生装置,其特征在于:所述第二种子源通过所述光耦合器(6)与所述第一主激光器(2)输出的所述第一种子源耦合,同时注入至所述从激光器(10)中。
5.根据权利要求1所述的基于双光注入半导体激光器的微波频率梳产生装置,其特征在于:所述第一主激光器(2)与所述第二主激光器(3)分别输出两个种子微波频率梳,且经过所述第一光衰减器(4)、所述第一偏振控制器(5)、所述第二光衰减器(7)与所述第二偏振控制器(8),通过所述光耦合器(6)进行耦合,然后经过所述光环行器(9)注入至所述从激光器(10),形成双光注入系统。
6.根据权利要求1所述的基于双光注入半导体激光器的微波频率梳产生装置,其特征在于:通过调节所述第一主激光器(2)、所述第二主激光器(3)与所述从激光器(10)的输出波长用于改变失谐频率Δf1与Δf2。
7.根据权利要求1所述的基于双光注入半导体激光器的微波频率梳产生装置,其特征在于:通过调节所述第一光衰减器(4)与所述第二光衰减器(7)用于改变光注入强度Kinj1与Kinj2。
8.根据权利要求1所述的基于双光注入半导体激光器的微波频率梳产生装置,其特征在于:通过调节所述第一偏振控制器(5)与所述第二偏振控制器(8)来匹配所述第一主激光器(2)、所述第二主激光器(3)和所述从激光器(10)的偏振方向。
9.根据权利要求1所述的基于双光注入半导体激光器的微波频率梳产生装置,其特征在于:所述从激光器(10)为单模半导体激光器,所述第一主激光器(2)与所述第二主激光器(3)均为单模激光源,其中所述第一主激光器(2)的频率大于所述从激光器(10)的频率且所述第二主激光器(3)的频率小于所述从激光器(10)的频率。
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