[实用新型]一种新型镀膜晶棒有效

专利信息
申请号: 202120186155.4 申请日: 2021-01-22
公开(公告)号: CN214011560U 公开(公告)日: 2021-08-20
发明(设计)人: 林亚桢;林景亮;丁树权;江华峰;林彬彬 申请(专利权)人: 福建中策光电股份公司
主分类号: G02B1/115 分类号: G02B1/115
代理公司: 泉州市文华专利代理有限公司 35205 代理人: 陈云川
地址: 362200 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 镀膜
【权利要求书】:

1.一种新型镀膜晶棒,包括由铽镓石榴石加工而成的晶棒本体,其特征在于:晶棒本体呈长方体状,晶棒本体具有第一透光面、第二透光面以及形成在第一透光面与第二透光面之间的四个侧面,第一透光面与第二透光面之间的距离在11-14mm,第一透光面上复合有第一增透膜,第一增透膜包括第一氧化铪膜层和复合在第一氧化铪膜层上的第一二氧化硅膜层,第二透光面上复合有第二增透膜,第二增透膜包括第二氧化铪膜层和复合在第二氧化铪膜层上的第二二氧化硅膜层,第一氧化铪膜层的厚度在490-500纳米,第一二氧化硅膜层的厚度在260-300纳米,第二氧化铪膜层的厚度在490-510纳米,第二二氧化硅膜层的厚度在260-300纳米,所述第一二氧化硅膜层和/或所述第二二氧化硅膜层上复合有可透光的疏水膜,疏水膜的厚度在800至900纳米。

2.如权利要求1所述的一种新型镀膜晶棒,其特征在于:所述疏水膜为聚四氟乙烯疏水膜。

3.如权利要求2所述的一种新型镀膜晶棒,其特征在于:所述第一增透膜包括多个所述第一氧化铪膜层和多个所述第一二氧化硅膜层,所述第一氧化铪膜层和所述第一二氧化硅膜层沿所述晶棒本体的长度方向交替布设,所述第二增透膜包括多个所述第二氧化铪膜层和多个所述第二二氧化硅膜层,所述第二氧化铪膜层和所述第二二氧化硅膜层沿所述晶棒本体的长度方向交替布设。

4.如权利要求3所述的一种新型镀膜晶棒,其特征在于:所述第一氧化铪膜层为两层,所述第一二氧化硅膜层为两层,所述第二氧化铪膜层为两层,所述第二二氧化硅膜层为两层。

5.如权利要求4所述的一种新型镀膜晶棒,其特征在于:所述第一氧化铪膜层以真空镀的方式形成,所述第一二氧化硅膜层以真空镀的方式形成,所述第二氧化铪膜层以真空镀的方式形成,所述第二二氧化硅膜层以真空镀的方式形成。

6.如权利要求5所述的一种新型镀膜晶棒,其特征在于:所述铽镓石榴石的莫氏硬度为8级。

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