[实用新型]一种电容器基膜加工用电晕处理设备

权利要求书

1.一种电容器基膜加工用电晕处理设备，其特征在于：包括输送组件，所述输送组件包括第一输送辊(1)、第一电晕辊(2)、第二电晕辊(3)以及第二输送辊(4)；基膜依次穿过第一输送辊(1)底部、第一电晕辊(2)顶部、第二电晕辊(3)底部以及第二输送辊(4)顶部；

所述第一电晕辊(2)的顶部安装有第一电晕机构(5)、底部安装有第一臭氧净化机构(6)；所述第二电晕辊(3)的顶部安装有第二臭氧净化机构(7)，所述第一臭氧净化机构(6)、第二臭氧净化机构(7)之间连通，所述第一臭氧净化机构(6)的内部安装有抽风机(62)。

2.根据权利要求1所述的一种电容器基膜加工用电晕处理设备，其特征在于：所述第一臭氧净化机构(6)包括第一净化箱(61)、抽风机(62)、净化组件；所述第一净化箱(61)置于第一电晕辊(2)的底部，所述第一净化箱(61)的顶部为开口结构，所述第一净化箱(61)的内部中部设有净化组件、内部底部设有抽风机(62)。

3.根据权利要求2所述的一种电容器基膜加工用电晕处理设备，其特征在于：所述第一臭氧净化机构(6)还包括第一围挡罩(65)、第一检查板(66)，所述第一净化箱(61)的顶部安装有第一围挡罩(65)，所述第一围挡罩(65)呈U形，所述第一围挡罩(65)的两个长侧板上均开设有第一穿线孔(651)，所述第一围挡罩(65)的开口处封堵有第一检查板(66)，所述第一检查板(66)铰接于第一净化箱(61)的侧壁。

4.根据权利要求3所述的一种电容器基膜加工用电晕处理设备，其特征在于：所述第一围挡罩(65)的顶部与第一电晕机构(5)固定连接，所述第一围挡罩(65)、第一检查板(66)以及第一电晕机构(5)共同围成臭氧围挡腔，所述第一电晕辊(2)置于臭氧围挡腔内。

5.根据权利要求3所述的一种电容器基膜加工用电晕处理设备，其特征在于：所述净化组件包括光照组件(63)和活性炭净化板(64)，所述活性炭净化板(64)置于光照组件(63)的底部，所述抽风机(62)置于活性炭净化板(64)的底部。

6.根据权利要求3所述的一种电容器基膜加工用电晕处理设备，其特征在于：所述第二臭氧净化机构(7)包括第二净化箱(71)、第二围挡罩(72)以及第二检查板(73)，所述第二净化箱(71)的开口朝下，所述第二净化箱(71)的底部连接第二围挡罩(72)，所述第二围挡罩(72)呈U形，所述第二围挡罩(72)的两个长侧板上均开设有第二穿线孔(721)，所述第二围挡罩(72)的开口处封堵有第二检查板(73)，所述第二检查板(73)铰接于第二净化箱(71)的侧壁；所述第二围挡罩(72)的底部与第二电晕机构(8)固定连接；所述第一净化箱(61)与第二净化箱(71)之间通过导气管(9)连通为一体。

7.根据权利要求1所述的一种电容器基膜加工用电晕处理设备，其特征在于：所述第一电晕机构(5)与第二电晕机构(8)之间结构相同，所述第一电晕机构(5)包括机箱(51)、第一放电装置(52)以及放电罩(53)；所述机箱(51)的内部安装有第一放电装置(52)，所述机箱(51)的底面嵌入有放电罩(53)，所述第一放电装置(52)电性连接放电罩(53)，所述放电罩(53)置于第一电晕辊(2)的外部。