[实用新型]流体流阻塞装置和用于测量过程流体流量的系统

权利要求书

1.一种用于过程流体流量测量装置的流体流阻塞装置，其特征在于，所述流体流阻塞装置包括：

第一壁，其具有第一侧；

第二壁，其近端布置在所述第一壁的所述第一侧的近端，形成第一顶点；以及

至少一个附加壁，其布置为平行于所述第二壁，与所述第一壁的所述第一侧的所述近端相距一定的距离，形成对应的附加顶点；

其中所述第一壁的远端和所述第二壁的远端中的至少一者以及至少一个附加壁远端被构造为接触流量计导管的内壁。

2.如权利要求1所述的流体流阻塞装置，其特征在于，还包括：

肋，其接触所述第一壁的所述第一侧并且延伸至所述第二壁，与所述至少一个附加壁相交；

其中所述肋布置为垂直于所述第一壁、所述第二壁和所述至少一个附加壁。

3.如权利要求2所述的流体流阻塞装置，其特征在于，所述肋从所述第一壁的所述远端沿着所述第一侧线性地延伸至所述第二壁。

4.如权利要求2所述的流体流阻塞装置，其特征在于，还包括布置于所述肋上的锚凸台。

5.如权利要求1所述的流体流阻塞装置，其特征在于，所述至少一个附加壁包括第三壁和附加壁。

6.如权利要求5所述的流体流阻塞装置，其特征在于，每个孔与对应的顶点对准。

7.如权利要求2所述的流体流阻塞装置，其特征在于，还包括在所述肋中的凹口，所述肋布置在所述至少一个附加壁的切割侧上，其中所述凹口邻近所述至少一个附加壁。

8.如权利要求2所述的流体流阻塞装置，其特征在于，所述肋的邻近所述至少一个附加壁的切割侧的每一侧包括切割引导件。

9.如权利要求1所述的流体流阻塞装置，其特征在于，所述第二壁和所述至少一个附加壁中的每个均布置在特定的h/D比率点处。

10.一种用于测量过程流体流量的系统，其特征在于，所述系统包括：

流体流导管，其具有入口和出口；

权利要求1所述的流体流阻塞装置；以及

差压传感器，其设置为感测所述流体流阻塞装置的任一侧上的过程流体差压。

11.如权利要求10所述的用于测量过程流体流量的系统，其特征在于，还包括布置为接触所述第一壁的第一侧的肋，所述肋延伸至所述第二壁，与所述至少一个附加壁相交；

其中所述肋布置为垂直于所述第一壁、所述第二壁和所述至少一个附加壁。

12.如权利要求11所述的用于测量过程流体流量的系统，其特征在于，还包括布置于所述肋上的锚凸台，其中所述锚凸台还包括至少一个用于锚的孔。

13.如权利要求12所述的用于测量过程流体流量的系统，其特征在于，每个孔与对应的顶点对准。

14.如权利要求12所述的用于测量过程流体流量的系统，其特征在于，所述流体流阻塞装置通过所述锚固定到所述流体流导管。

15.如权利要求14所述的用于测量过程流体流量的系统，其特征在于，所述第一壁布置于所述流体流导管的所述入口侧或所述出口侧上，并且所述第二壁和/或所述至少一个附加壁布置于所述流体流导管的相对侧上。

16.如权利要求10所述的用于测量过程流体流量的系统，其特征在于，所述第二壁和/或所述至少一个附加壁分别布置于特定的h/D比率点处。