[实用新型]一种样品托、样品托组件及等离子体化学气相沉积设备有效
申请号: | 202120203772.0 | 申请日: | 2021-01-25 |
公开(公告)号: | CN214383795U | 公开(公告)日: | 2021-10-12 |
发明(设计)人: | 黄春林;胡宗义;季宇 | 申请(专利权)人: | 成都纽曼和瑞微波技术有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/50;C23C16/46 |
代理公司: | 北京卓恒知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11394 | 代理人: | 孔鹏 |
地址: | 610000 四川省成都*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 样品 组件 等离子体 化学 沉积 设备 | ||
1.一种样品托,其特征在于,所述样品托包括样品托本体及导热凸台,所述导热凸台设置在所述样品托本体底面的中部;所述样品托本体底面上还设置有环形槽,所述环形槽围绕所述凸台延伸。
2.根据权利要求1所述的样品托,其特征在于,所述样品托本体底面上设置有多个所述环形槽,由外向内多个所述环形槽的宽度或/和深度逐渐减小。
3.根据权利要求1所述的样品托,其特征在于,所述样品托本体的底面为圆形面,所述底面的边缘设置有环形凸部。
4.根据权利要求1所述的样品托,其特征在于,所述样品托本体为回转体,所述样品托本体的母线包括内凹曲线。
5.一种样品托组件,其特征在于,所述样品托组件包括基底及权利要求1-4任一项所述的样品托,所述基底上设置有安装凹槽,所述样品托安装在所述安装凹槽中。
6.根据权利要求5所述的样品托组件,其特征在于,所述基底设置有冷却通道。
7.根据权利要求6所述的样品托组件,其特征在于,所述冷却通道为螺旋形。
8.根据权利要求5所述的样品托组件,其特征在于,还包括过渡托,所述过渡托为圆形板状结构,所述过渡托设置在所述基底与所述样品托本体之间。
9.根据权利要求5所述的样品托组件,其特征在于,所述基底采用无氧铜材质。
10.一种等离子体化学气相沉积设备,其特征在于,包括权利要求1至4任一项所述的样品托或权利要求5-9任一项所述的样品托组件。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的