[实用新型]采用气动旋转的等离子体处理装置有效
申请号: | 202120222920.3 | 申请日: | 2021-01-27 |
公开(公告)号: | CN214477323U | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
发明(设计)人: | 徐江霖 | 申请(专利权)人: | 广东震仪智能装备股份有限公司 |
主分类号: | H01J37/02 | 分类号: | H01J37/02;B08B7/00;B08B13/00 |
代理公司: | 深圳市德锦知识产权代理有限公司 44352 | 代理人: | 陈永晔 |
地址: | 518000 广东省深圳市龙华区大浪街*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 采用 气动 旋转 等离子体 处理 装置 | ||
本实用新型涉及一种采用气动旋转的等离子体处理装置,其特征在于,包括具有第一腔室的壳体和中空转轴,壳体上设有连通第一腔室且同轴设置的第一轴孔和第二轴孔,中空转轴定位在第一轴孔和第二轴孔上旋转,中空转轴的外侧设有轴环部,轴环部上设有沿中空转轴的轴线方向呈圆周对称的多个叶片槽,叶片槽内设有活动的叶片,轴环部位于在第一腔室中旋转;壳体上设有连通第一腔室的进气孔与出气孔,在第一腔室中设有套设在轴环部外围的内壳,内壳的内侧壁圆周面与轴环部的外侧壁圆周面呈偏心设置,内壳与轴环部之间形成气流通道,气流通道的两端分别连通进气孔与出气孔;中空转轴的输出端连接套筒,套筒上安装有喷嘴。通过高压的压缩气体来驱动喷嘴进行旋转。
技术领域
本实用属于等离子体表面处理技术领域,涉及等离子体处理装置,尤其是涉及一种采用气动旋转的等离子体喷头装置。
背景技术
在工件如玻璃的表面上进行涂层喷涂能起到保护、增加耐磨及达到特殊性能等,在工件喷涂加工前非常必要经过表面清洁处理,以提高涂层的附着牢度,采用等离子体进行表面清洁处理一种比常常见的处理方式。
等离子体是由部分电子被剥夺后的原子及原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质,等离子体是一种很好的导电体,主要利用等离子体处理装置的喷嘴喷射至工件表面以达到处理目的。
目前市场和行业中,为达处理面积更大,喷嘴通常自射设计成旋转的,一般采用的电机驱动喷嘴转动,喷嘴内有旋转倾斜通道,从而增加处理面积。一般电机驱动由电机部件和传动部件组合而成,由于电机部件和传动部件占用空间导致的结果是同轴等离子体喷头装置尺寸大,质量很重,使得装置不能快速移动,效率下降;处理面积和外形尺寸无法一比一,不能静态排列;高压低频线和电机的传输线在同一套管中,有电磁干扰影响;装置产生的热量使电机致发热严重,电机寿命不长;产生的等离子体、低频高压线、电机等相互电磁影响,不利于分析等离子体粒子组成状态及电极负载特性。
实用新型内容
本实用新型的目的是针对现有技术中存在的不足,提供一种采用气动旋转的等离子体处理装置,通过高压的压缩气体来驱动喷嘴进行旋转。
本实用新型是通过如下的技术方案来实现的。
本技术方案是一种采用气动旋转的等离子体处理装置,包括具有第一腔室的壳体和中空转轴,壳体上设有连通第一腔室且同轴设置的第一轴孔和第二轴孔,中空转轴定位在第一轴孔和第二轴孔上旋转,中空转轴的外侧设有轴环部,轴环部上设有沿中空转轴的轴线方向呈圆周对称的多个叶片槽,叶片槽内设有活动的叶片,轴环部位于在第一腔室中旋转;
壳体上设有连通第一腔室的进气孔与出气孔,在第一腔室中设有套设在轴环部外围的内壳,内壳的内侧壁圆周面与轴环部的外侧壁圆周面呈偏心设置,内壳与轴环部之间形成气流通道,气流通道的两端分别连通进气孔与出气孔;中空转轴的输出端连接套筒,套筒上安装有喷嘴。
本技术方案与现有技术相比,有益效果是,采用中空转轴来减小尺寸,使用压缩气体驱动叶片,通过叶片传动到中空转轴实现旋转,进而带动套筒和喷嘴旋转;中空转轴的内部还可以作为气体的通道以及高压电线的通道。
气动旋转的工作原理是,由于内壳的内侧壁圆周面与轴环部的外侧壁圆周面呈偏心设置,高压的压缩气体在气流通道通过时,驱动中空转轴的轴环部进行转动,由于转动的离心作用,叶片会向外滑出叶片槽,叶片侧面与内壳的内侧壁圆周面接触并滑动,叶片受到压缩气体的推动进一步使中空转轴转动,由于两个偏心圆周面的相距最远一侧叶片滑出的面积大,受到的推力大,从而保证了中空转轴始终以一个方向转动,避免了中空转轴反转,但是可以通过改变压缩气体的进入方向来改变中空转轴的旋转方向。
在该技术方案的一个较佳示例中,内壳的内侧壁圆周面大于轴环部外侧壁圆周面,内壳的内侧壁圆周面与轴环部外侧壁圆周面相切接触。接触相切是一种最好的实施方式,使气流通道的变成封闭的单一通道,最大程度的利用了压缩气体的推力。
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