[实用新型]一种橙黄渐变色的手机壳镀膜有效

专利信息
申请号: 202120232993.0 申请日: 2021-01-28
公开(公告)号: CN214400685U 公开(公告)日: 2021-10-15
发明(设计)人: 陈胜利;谢祥斌;习锋 申请(专利权)人: 东莞市齐品光学有限公司
主分类号: C23C14/08 分类号: C23C14/08;C23C14/10;C23C14/14;H04M1/02
代理公司: 北京华际知识产权代理有限公司 11676 代理人: 叶玉凤
地址: 523000 广东省东莞市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 橙黄 渐变 机壳 镀膜
【说明书】:

实用新型公开一种橙黄渐变色的手机壳镀膜,包括设于手机壳片材上的UV薄膜,该UV薄膜的表面设置打底层,所述打底层为硅铝混合物膜;以打底层为底层从内到外依次镀有第一调色层、第二调色层、第三调色层,所述第一调色层是由层叠设置的第一TiO2膜和第一SiO2膜组成;所述第二调色层是由第二TiO2膜和第二SiO2膜组成;所述第三调色层为TiO2材料镀膜。由于采用硅铝混合物膜(简称为STAL)作为打底层,直接与UV薄膜复合,该硅铝混合物膜与UV薄膜的性能吻合,使得本产品能够顺利地通过水煮测试、高温测试、紫外线测试,产品的性能优良,品质更好。各调色层的设计使得光线进行了折射、反射和光过滤效果,因此能在变换视角过程中能看到手机壳橙黄渐变的效果。

技术领域

本实用新型涉及镀膜领域技术,尤其是指一种橙黄渐变色的手机壳镀膜。

背景技术

现在的手机颜色绚丽多彩能提升视觉美感。为了实现手机壳的丰富色彩,现有技术是通过喷涂颜料的方式,也可以通过电镀的方法。喷涂颜料会的掉色、不耐磨、不耐用的弊端。近些年以来,PVD镀膜(离子镀膜)技术逐渐成为当今最先进的表面处理方式之一。

PVD镀膜(离子镀膜)技术,其具体原理是在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。

PVD镀膜能够镀出的膜层的颜色种类-PVD镀膜目前能够做出的膜层的颜色有深金黄色,浅金黄色,咖啡色,古铜色,灰色,黑色,灰黑色,七彩色等。通过控制镀膜过程中的相关参数,可以控制镀出的颜色;镀膜结束后可以用相关的仪器对颜色进行测量,使颜色得以量化,以确定镀出的颜色是否满足要求。然而具有渐变色的镀膜是不易成功的,因此需要本领域技术人员设计出一种新的方式以生产出渐变色的手机壳镀膜。

实用新型内容

有鉴于此,本实用新型针对现有技术存在之缺失,其主要目的是提供一种橙黄渐变色的手机壳镀膜,具有橙色、黄色渐变的效果,并且能通过各种测试,以达到合格产品的需求,从而克服现有技术的不足。

为实现上述目的,本实用新型采用如下之技术方案:

一种橙黄渐变色的手机壳镀膜,包括设于手机壳片材上的UV薄膜,该UV薄膜的表面设置打底层,所述打底层为硅铝混合物膜;以打底层为底层从内到外依次镀有第一调色层、第二调色层、第三调色层,所述第一调色层是由层叠设置的第一TiO2膜和第一SiO2膜组成;所述第二调色层是由第二TiO2膜和第二SiO2膜组成;所述第三调色层为TiO2材料镀膜。

作为一种优选方案,所述打底层的厚度为7-9 nm。

作为一种优选方案,所述打底层的厚度为8 nm。

作为一种优选方案,所述第一SiO2膜是镀在第一TiO2膜表面上,该第一TiO2膜厚度介于7-8 nm,第一SiO2膜介于8-9 nm。

作为一种优选方案,所述第一TiO2膜的厚度为76.5 nm,第一SiO2膜的厚度为83.3nm。

作为一种优选方案,所述第二TiO2膜是镀在所述第一SiO2膜的表面上,所述第二SiO2膜是镀在第二TiO2膜的表面上,所述第二TiO2膜厚度介于7-8nm,第二SiO2膜厚度介于9-10 nm。

作为一种优选方案,所述第二TiO2膜的厚度为76.9 nm,第二SiO2膜的厚度为97.1nm。

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