[实用新型]超声成像装置以及超声成像系统

权利要求书

1.一种超声成像装置，其特征在于，所述超声成像装置包括：

主体部，具有第一端和第二端；和

换能器，设置于所述主体部的所述第一端，所述换能器包括：

衬底；

第一电极和第二电极；以及

多个阵元，设置于所述衬底上，每个所述阵元包括：

被动层，设置于所述衬底上；

第一电极层，设置于所述被动层的远离所述衬底的一侧，所述第一电极层与所述第一电极电连接；

第二电极层，设置于所述第一电极层远离所述衬底的一侧，所述第二电极层与所述第二电极电连接；

第一压电层，设置于所述第一电极层和所述第二电极层之间。

2.如权利要求1所述的超声成像装置，其特征在于，所述换能器还包括钳制区，所述钳制区设置于所述衬底上、位于所述多个阵元之间，所述钳制区至少包括第二压电层。

3.如权利要求2所述的超声成像装置，其特征在于，所述换能器包括多个第一电极和多个第二电极，其中，同一行的所述阵元的第一电极层连接至一个所述第一电极，并且同一列的所述阵元的第二电极层连接至一个所述第二电极。

4.如权利要求2所述的超声成像装置，其特征在于，所述第一压电层与所述第二压电层同层设置。

5.如权利要求2所述的超声成像装置，其特征在于，所述第一压电层和所述第二压电层为压电薄膜，所述压电薄膜的厚度为0.1～10μm，且由锆钛酸铅、氧化锌、氮化铝以及铌酸钾钠材料中的任一种或多种形成。

6.如权利要求2所述的超声成像装置，其特征在于，所述换能器还包括多个空腔，所述空腔设置于所述被动层与所述衬底之间，其中，每个所述空腔与每个所述阵元的位置一一对应。

7.如权利要求6所述的超声成像装置，其特征在于，每个所述阵元还包括波导层或背衬层，所述波导层或背衬层填充于所述空腔中。

8.如权利要求1所述的超声成像装置，其特征在于，所述换能器的谐振频率大于等于60兆赫兹。

9.一种超声成像系统，其特征在于，所述超声成像系统包括：

如权利要求1至8中任一项所述的超声成像装置，其中，所述换能器的多个阵元被配置为收脉冲激励后发射超声波的发射阵元以及发射超声波后接收返回信号的接收阵元；

延迟电路，电连接至与所述发射阵元电连接的所述第一电极和第二电极；

控制单元，电连接所述延迟电路，用于计算所述延迟电路各通路的时间延迟量，并触发所述延迟电路进行电信号激励；

信号采集单元，电连接至与所述接收阵元电连接的所述第一电极和第二电极；

信号处理单元，电连接所述信号采集单元，用于对所述信号采集单元采集到的信号进行处理，以进行成像。

10.如权利要求9所述的超声成像系统，其特征在于，所述延迟电路和所述信号采集单元形成于一个专用集成电路上。

11.如权利要求9所述的超声成像系统，其特征在于，所述超声成像系统还包括一成像单元，所述成像单元电连接所述信号处理单元，用于对所述信号处理单元处理后的信号进行成像。