[实用新型]一种硅胶颗粒清洗设备

权利要求书

1.一种硅胶颗粒清洗设备，其特征在于，包括：池体，给水管，排水管，放置机构，搅动装置，升降装置；所述池体为空心无盖结构；所述搅动装置复数设置于池体底部；所述升降装置设置于池体内壁；所述放置机构设置于升降装置上，并可由升降装置带动，朝向搅动装置靠近或远离；所述给水管设置于池体侧壁，并与池体内部相连通；所述排水管设置于池体底面，并与池体内部相连通。

2.如权利要求1所述的一种硅胶颗粒清洗设备，其特征在于，所述升降装置包括：导轨，丝杆，滑块，转动电机；所述导轨固定于池体内壁；所述丝杆设置于导轨内部；所述转动电机设置于导轨顶部，其输出端与丝杆连接，并能带动丝杆转动；所述滑块设置于导轨内部，并与丝杆螺纹连接。

3.如权利要求2所述的一种硅胶颗粒清洗设备，其特征在于，所述滑块上开设有凹槽；所述凹槽的槽底开设有贯穿滑块的第一螺纹孔。

4.如权利要求3所述的一种硅胶颗粒清洗设备，其特征在于，所述放置机构包括：盒体，顶盖，连接块；所述盒体为空心无盖结构，其底面阵列式的贯穿设置有若干槽口；所述顶盖上也阵列式的贯穿设置有若干槽口；所述连接块设置于盒体侧壁上，并贯穿开设有第二螺纹孔。

5.如权利要求4所述的一种硅胶颗粒清洗设备，其特征在于，所述搅动装置包括：搅动电机，搅轮；所述搅轮设置于池体内底面；所述搅动电机设置于池体的外底面，其输出端与搅轮相连，并能带动搅轮转动。

6.如权利要求5所述的一种硅胶颗粒清洗设备，其特征在于，所述搅轮为圆台结构，其上底面与侧面上都阵列式的设置有凸起部。

7.如权利要求1所述的一种硅胶颗粒清洗设备，其特征在于，所述池体的外底面设置有若干用于支撑池体的支脚。