[实用新型]一种超构表面元件以及图像处理装置

权利要求书

1.一种超构表面元件，其特征在于，所述超构表面元件包括：

基底；

第一微结构阵列，设置于所述基底上，用于三维成像；以及

第二微结构阵列，设置于所述基底上背离所述第一微结构阵列的一侧，用于加强图像边缘信号。

2.根据权利要求1所述的超构表面元件，其特征在于，所述第一微结构阵列设置有多个，多个所述第一微结构阵列间隔分布在所述基底上。

3.根据权利要求1所述的超构表面元件，其特征在于，所述第一微结构阵列包括多个第一纳米柱，所述第一纳米柱包括氮化镓纳米柱、二氧化钛纳米柱、硅纳米柱中的一种或多种。

4.根据权利要求1所述的超构表面元件，其特征在于，所述第二微结构阵列包括多个第二纳米柱，多个所述第二纳米柱均匀分布在所述基底上。

5.根据权利要求4所述的超构表面元件，其特征在于，所述第二纳米柱包括氮化镓纳米柱、二氧化钛纳米柱、硅纳米柱中的一种或多种。

6.根据权利要求4所述的超构表面元件，其特征在于，所述第二纳米柱的形状为圆柱形。

7.根据权利要求6所述的超构表面元件，其特征在于，光线透过所述第二纳米柱的透过率随入射角度呈抛物线形变化。

8.根据权利要求1所述的超构表面元件，其特征在于，所述第一微结构阵列包括多个第一纳米柱；所述第二微结构阵列包括多个第二纳米柱；所述第一纳米柱和所述第二纳米柱均为氮化镓纳米柱。

9.根据权利要求1所述的超构表面元件，其特征在于，所述基底为蓝宝石基底。

10.一种图像处理装置，其特征在于，包括如权利要求1至9任意一项所述的超构表面元件。