[实用新型]一种智能足浴器有效
申请号: | 202120252298.0 | 申请日: | 2021-01-28 |
公开(公告)号: | CN215022114U | 公开(公告)日: | 2021-12-07 |
发明(设计)人: | 陈保平;王双华;程毅;梁健燊;吴太荣 | 申请(专利权)人: | 广东顺德清宇环保科技有限公司 |
主分类号: | A61H35/00 | 分类号: | A61H35/00;C02F1/461 |
代理公司: | 佛山市名诚专利商标事务所(普通合伙) 44293 | 代理人: | 卢志文 |
地址: | 528300 广东省佛山市顺*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 智能 足浴器 | ||
1.一种智能足浴器,包括足浴桶,所述足浴桶内设有电化学发生装置,所述足浴桶的底部对应电化学发生装置的位置设有电路板,所述电化学发生装置包括底座、上电极片、下电极片、第一钛螺钉以及第二钛螺钉,所述上电极片和下电极片上下间隔设置在底座的顶部,所述电路板设于底座的底部,所述第一钛螺钉向下穿过上电极片和底座,并与电路板连接,第一钛螺钉将上电极片压在底座上,所述第二钛螺钉向下穿过下电极片和底座,并与电路板连接,第二钛螺钉将下电极片压在底座上。
2.根据权利要求1所述智能足浴器,其特征是, 所述足浴桶内设有电处理槽,所述电化学发生装置设于电处理槽内。
3.根据权利要求1或2所述智能足浴器,其特征是, 所述电化学发生装置还包括电极片隔垫,所述电极片隔垫设于底座上,并位于上电极片和下电极片之间。
4.根据权利要求2所述智能足浴器,其特征是,所述电处理槽的深度H的范围为0.5mm-10mm。
5.根据权利要求1所述智能足浴器,其特征是, 所述上电极片与下电极片之间的距离范围为0.1mm-8mm。
6.根据权利要求1所述智能足浴器,其特征是, 所述电化学发生装置还包括上盖,所述上盖设于底座的顶部,所述上电极片、下电极片、第一钛螺钉以及第二钛螺钉位于上盖内。
7.根据权利要求1所述智能足浴器,其特征是, 所述底座的顶部设有中心定位凸起、中心定位凸起、定位凸环和支撑凸环,所述定位凸环和支撑凸环上分别设有第一穿孔和第二穿孔,所述上电极片对应第一穿孔设有第一让位孔,所述电路板对应第一穿孔设有第二让位孔,第一钛螺钉向下依次穿过第一让位孔、第一穿孔、第二让位孔并与第一螺母连接,所述电极片隔垫对应第二穿孔设有第二定位圈,所述下电极片对应第二穿孔设有第四让位孔,所述电路板对应第二穿孔设有第五让位孔,所述第二钛螺钉向下依次穿过第二定位圈、第四让位孔、第二穿孔、第五让位孔并与第二螺母连接。
8.根据权利要求7所述智能足浴器,其特征是, 所述第一钛螺钉与第一穿孔之间设有第一密封圈,所述第二钛螺钉与第二穿孔之间设有第二密封圈,所述电路板、第一钛螺钉以及第一穿孔之间设有第三密封圈,所述电路板、第二钛螺钉以及第二穿孔之间设有第四密封圈。
9.根据权利要求1所述智能足浴器,其特征是, 所述足浴桶的底部设有向上凹陷的安装凹槽,所述安装凹槽在足浴桶内形成安装凸台,所述电路板设于安装凹槽内,所述电化学发生装置设于安装凸台上。
10.根据权利要求9所述智能足浴器,其特征是,所述安装凸台上设有安装孔,所述电化学发生装置设于安装孔上,所述底座与安装孔之间设有第五密封圈。
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