[实用新型]可调节的纳米真空镀膜结构

说明书

本实用新型公开了可调节的纳米真空镀膜结构，包括镀膜箱，镀膜箱内壁一侧的底部固定穿插安装有抽气管，镀膜箱内壁一侧的顶部固定穿插安装有进料管，镀膜箱内壁的底端开设有放置槽，镀膜箱上设有放置组件，放置组件包括第一电机和转轴，第一电机固定设置在镀膜箱顶端的中部，转轴转动穿插设置在镀膜箱内壁顶端的中部，镀膜箱内壁的另一侧和内壁的另一边侧分别开设有两个滑槽，镀膜箱上还设有加热调节组件，本实用新型的有益效果是：通过放置组件将镀膜箱内部的空间利用率最大化，提高镀膜效率，通过加热调节组件使工件被均匀加热，提高加热板对工件的加热效率，防止工件加热不均匀导致镀膜效果差。

技术领域

本实用新型涉及一种纳米真空镀膜结构，特别涉及可调节的纳米真空镀膜结构，属于纳米真空镀膜技术领域。

背景技术

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空电阻加热蒸发，电子枪加热蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积，离子束溅射等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，经过散点、岛状结构、迷走结构以及层状生长的成膜过程形成薄膜。

现有的真空镀膜机中的纳米真空镀膜结构通常将需要镀膜的工件放置在镀膜板上进行镀膜，镀膜板之间的距离无法根据放置进行镀膜工件的高度进行调整，镀膜机内部的空间利用率不高，镀膜效率较低，同时加热板与工件的相对位置固定无法调整，工件的加热效率较差，影响镀膜效果。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供可调节的纳米真空镀膜结构，以解决上述背景技术中提出的镀膜板之间的距离无法根据放置进行镀膜工件的高度进行调整以及同时加热板与工件的相对位置固定无法调整的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：可调节的纳米真空镀膜结构，包括镀膜箱，所述镀膜箱内壁一侧的底部固定穿插安装有抽气管，所述镀膜箱内壁一侧的顶部固定穿插安装有进料管，所述镀膜箱内壁的底端开设有放置槽，所述镀膜箱上设有放置组件，所述放置组件包括第一电机和转轴，所述第一电机固定设置在镀膜箱顶端的中部，所述转轴转动穿插设置在镀膜箱内壁顶端的中部，所述转轴的顶端与第一电机的输出轴固定连接，所述转轴的底端转动设置在放置槽内壁的底端，所述转轴的边侧开设有滑动槽，所述滑动槽的另一侧开设有若干个与滑动槽连通的限位槽，所述转轴上活动套设有若干个镀膜板，若干个所述镀膜板的内部均固定安装有限位块，若干个所述限位块的尺寸均与限位槽的尺寸相匹配，所述镀膜箱内壁的另一侧和内壁的另一边侧分别开设有两个滑槽，所述镀膜箱上还设有加热调节组件，所述加热调节组件包括第二电机和两个滑块，所述第二电机固定设置在镀膜箱顶端的一角，所述第二电机的输出轴贯穿镀膜箱内壁的顶端固定安装有往复丝杆，所述往复丝杆的底端转动设置在镀膜箱内壁底端的一角，两个所述滑块分别滑动设置在两个滑槽的内部，两个所述滑块上分别固定安装有两个加热板，所述往复丝杆的中部螺纹穿插安装有升降套，所述升降套的一侧和边侧分别与其中一个加热板的另一侧和另一个加热板的另一边侧固定连接。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述镀膜箱顶端的一侧固定穿插安装有真空表。

作为本实用新型的一种优选技术方案，若干个所述镀膜板上均开设有若干个插孔。

作为本实用新型的一种优选技术方案，若干个所述镀膜板底端的两侧均固定安装有橡胶块。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述镀膜箱的边侧铰接有箱门，所述箱门边侧的一侧固定安装有把手。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述箱门边侧的中部固定安装有开关面板，所述开关面板的表面分别设有镀膜开关和加热开关，所述第一电机通过镀膜开关与外接电源电性连接，所述第二电机和两个加热板均通过加热开关与外接电源电性连接。