[实用新型]一种266纳米高功率激光增透膜有效
| 申请号： | 202120292990.6 | 申请日： | 2021-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN214225468U | 公开（公告）日： | 2021-09-17 |
| 发明（设计）人： | 王泽栋;李全民;李林峰;王国力 | 申请（专利权）人： | 南京波长光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/115 | 分类号： | G02B1/115 |
| 代理公司： | 南京中律知识产权代理事务所(普通合伙) 32341 | 代理人： | 李建芳 |
| 地址： | 211121 江苏省南*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 266 纳米 功率 激光 增透膜 | ||
【权利要求书】：
1.一种266纳米高功率激光增透膜，其特征在于：膜层结构为：A/cL/bH/aL/SUB/aL/bH/cL/A，其中，SUB代表玻璃基底；A代表空气；H代表高折射率膜层；L代表低折射率膜层；a﹑b﹑c分别为各膜层的四分之一参考波长光学厚度的系数理论值，a为1.6±0.2，b为0.53±0.2，c为1.13±0.2。
2.如权利要求1所述的266纳米高功率激光增透膜，其特征在于：高折射率膜层所用材料为HfO2或AL2O3。
3.如权利要求1或2所述的266纳米高功率激光增透膜，其特征在于：低折射率膜层所用材料为SIO2或MgF2。
4.如权利要求1或2所述的266纳米高功率激光增透膜，其特征在于：基底所用材料为熔石英、蓝宝石或氟化钙。
5.如权利要求1或2所述的266纳米高功率激光增透膜，其特征在于：膜层的物理厚度为：aL为75.44±7.5nm，bH为20±2nm，cL为52.36±5.2nm。
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