[实用新型]一种安装环件的辅助治具

说明书

本实用新型涉及一种安装环件的辅助治具，所述安装环件的辅助治具包括中心环、顶持件和卡件；所述顶持件为凸型结构包括凸端和底端，所述凸端的顶部和所述中心环的侧面连接，所述底端的底面与环件内侧面相接触；所述卡件为U型结构，所述U型结构的长端的外宽面和所述中心环的侧面连接，另一个U型结构的长端的内宽面设置有凸台，所述凸台的凸台面和所述环件的外侧面相接触；所述顶持件至少设置2个；所述卡件至少设置4个。可以实现环件的精确安装，保证环件不会发生变形及安装不稳定造成的偏心问题，避免了环件安装不恰当导致的溅射不稳定的问题，避免了晶圆的浪费，提高了晶圆溅射中的成品率。

技术领域

本实用新型涉及溅射镀膜，具体涉及一种安装环件的辅助治具。

背景技术

目前，溅射作为镀膜的一种常规手段，在溅射过程中通常要用靶材作为溅射源，环件用来稳定磁场提升溅射准确度以及待溅射目标物。

如CN102051586A公开了一种溅射系统以及对非平面表面的工件溅射的方法。所述溅射系统，可用以对表面为非平面的工件进行溅射，该溅射系统包括：一溅射腔体，溅射腔体内至少包括：第一溅射源，以一第一预定距离与用以承载工件的载具或输送机构相对设置，并大约与载具平行；第二溅射源，第二溅射源所在平面位置的法线方向与水平方向形成一夹角，倾斜配设于第一溅射源的侧边，第二溅射源并环绕于第一溅射源周围，用以提供对工件的非平面的结构进行溅射。

CN111455332A公开了一种溅射腔室包括基座、进气口、出气口和内衬结构。基座置于溅射腔室内，用于承载工作件。进气口置于基座的上方，进气口用于至少通入反应气体和溅射气体，其中反应气体与溅射气体的气体流量比例小于1，且溅射腔室的工作压力低于10mTorr。出气口置于基座的下方，出气口用于与抽气装置连接以将溅射腔室维持在预定的环境。内衬结构置于溅射腔室内且于加工时环绕基座以形成反应区，内衬结构将进气口和出气口隔离并在溅射腔室内形成相互独立的进气通道和出气通道，进气通道连通进气口和反应区，出气通道连通反应区和出气口，其中内衬结构用于使反应气体在反应区内均匀分布。

当前溅射过程中通常会在溅射腔内放置钛环或钽环等环件来稳定溅射过程中的磁场分布，然而当前环件的放置为采用人工手持放置，即将钽环直接放置在溅射腔内，然而安装过程中因为手持放到这个腔体里，放到指定孔位置的时候需要在外面安装螺丝固定，此时环会产生倾斜变形或偏心等问题，导致溅射过程中磁场不稳定，进而导致溅射不均匀，溅射不稳定等问题，导致晶圆浪费。

实用新型内容

鉴于现有技术中存在的问题，本实用新型的目的之一在于提供一种安装环件的辅助治具，可以实现环件的精确安装，保证环件不会发生变形及安装不稳定造成的偏心问题，避免了环件安装不恰当导致的溅射不稳定的问题，避免了晶圆的浪费，提高了晶圆溅射中的成品率。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

本实用新型提供了一种安装环件的辅助治具，所述安装环件的辅助治具包括中心环、顶持件和卡件；

所述顶持件为凸型结构包括凸端和底端，所述凸端的顶部和所述中心环的侧面连接，所述底端的底面与环件内侧面相接触；

所述卡件为U型结构，所述U型结构的长端的外宽面和所述中心环的侧面连接，另一个U型结构的长端的内宽面设置有凸台，所述凸台的凸台面和所述环件的外侧面相接触；

所述顶持件至少设置2个；

所述卡件至少设置4个。

本实用新型提供的安装环件的辅助治具，通过安装过程的分析，对辅助治具进行设计，使用时首先在中心环上安装顶持件使得中心环和环件之间实现精准定位和顶持，之后安装卡件将调整螺栓等连接件将环件进行固定，然后放置入溅射腔内，可以实现环件的精确安装，保证环件不会发生变形及安装不稳定造成的偏心问题，避免了环件安装不恰当导致的溅射不稳定的问题，避免了晶圆的浪费，提高了晶圆溅射中的成品率。