[实用新型]一种基于金属基底的薄膜传感器的绝缘层结构有效

专利信息
申请号: 202120316002.7 申请日: 2021-02-04
公开(公告)号: CN214046208U 公开(公告)日: 2021-08-24
发明(设计)人: 曹建峰;毛羽宏 申请(专利权)人: 曹建峰
主分类号: H05K3/46 分类号: H05K3/46;H05K3/00;H05K3/26;H05K1/18
代理公司: 北京高航知识产权代理有限公司 11530 代理人: 李浩
地址: 234000 安徽省宿*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 金属 基底 薄膜 传感器 绝缘 结构
【权利要求书】:

1.一种基于金属基底的薄膜传感器的绝缘层结构,其特征在于:包括金属基底层,设置在金属基底层上的粘接层,在粘接层上的设置第一绝缘层,在第一绝缘层上设置隔离层,在隔离层上设置第二绝缘层,在第二绝缘层上设置的传感器电路层。

2.根据权利要求1所述的基于金属基底的薄膜传感器的绝缘层结构,其特征在于:所述粘接层为在金属基底上淀积的厚5~50nm的金属钛层。

3.根据权利要求1所述的基于金属基底的薄膜传感器的绝缘层结构,其特征在于:所述第二绝缘层和传感器电路层上设置保护层。

4.根据权利要求1所述的基于金属基底的薄膜传感器的绝缘层结构,其特征在于:所述第一绝缘层为通过电子束蒸发在粘接层上淀积的厚0.2~5 um的氧化铝层。

5.根据权利要求1所述的基于金属基底的薄膜传感器的绝缘层结构,其特征在于:所述隔离层为通过原子层堆积在第一绝缘层上淀积的厚10~500 nm 的氧化铝层。

6.根据权利要求1所述的基于金属基底的薄膜传感器的绝缘层结构,其特征在于:所述第二绝缘层为通过电子束蒸发在隔离层上淀积的厚0.2~5 um的氧化铝层。

7.根据权利要求3所述的基于金属基底的薄膜传感器的绝缘层结构,其特征在于:所述保护层包括第一保护层,第一保护层为通过电子束蒸发在第二绝缘层上淀积的厚0.2~5um的氧化铝层,第一保护层不覆盖传感器电路层的焊盘。

8.根据权利要求7所述的基于金属基底的薄膜传感器的绝缘层结构,其特征在于:所述保护层还包括第二保护层,第二保护层为通过原子层堆积在第一保护层上淀积的厚10~500 nm的氧化铝层,第二保护层不覆盖传感器电路层的焊盘。

9.根据权利要求8所述的基于金属基底的薄膜传感器的绝缘层结构,其特征在于:所述保护层还包括第三保护层,第三保护层为通过电子束蒸发在第二保护层上淀积的厚0.2~5um的氧化铝层,第三保护层不覆盖传感器电路层的焊盘。

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