[实用新型]一种稳定型辐照输送系统

说明书

本实用新型公开了一种稳定型辐照输送系统，包括横向输送机构、缓冲区以及竖向输送机构，所述横向输送机构一端与所述缓冲区一侧外壁相连接，所述缓冲区顶部与所述竖向输送机构底部相连接，所述横向输送机构底部设置有第一支撑架，所述竖向输送机构底部设置有第二支撑架，且所述竖向输送机构靠近辐照机构顶部一侧设置有第一限位轮，所述第一限位轮底部与所述第二支撑架顶部相连接。本实用新型通过设置的第一限位轮、限位组件能够保证原件在竖向输送机构顶部移动过程中的稳定性，从而使得装置能够保证原件在经过辐照机构时的加工质量稳定性，且通过设置高度调节组件方便了使用者对于辐照机构的调节使用，从而提高了装置使用的便捷性。

技术领域

本实用新型涉及辐照输送系统相关技术领域，具体为一种稳定型辐照输送系统。

背景技术

辐射加工是指将电子加速器产生的电子线或放射性同位素产生的γ射线的能量转移给被辐照物质，电离辐射作用到被辐照的物质上，产生电离和激发，释放出轨道电子，形成自由基，通过控制辐射条件，而使被辐照物质的物理性能和化学组成发生变化并能使其成为人们所需要的一种新的物质，或使生物体受到不可恢复的损失和破坏，达到人们所需要的目标，而在辐照加工过程中对于原件的输送均是通过输送系统来完成。

现有技术的不足：现阶段采用的输送系统由于本身结构的缺陷，不能对进入辐照机构之间的原件进行限位，进而导致原件在经过缓冲区进入辐照机构过程中可能由于传送机构导致原件发生偏移，进而降低了装置对于原件加工的质量稳定性。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种稳定型辐照输送系统，解决了现阶段采用的输送系统由于本身结构的缺陷，不能对进入辐照机构之间的原件进行限位，进而导致原件在经过缓冲区进入辐照机构过程中可能由于传送机构导致原件发生偏移，进而降低了装置对于原件加工的质量稳定性的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种稳定型辐照输送系统，包括横向输送机构、缓冲区以及竖向输送机构，所述横向输送机构一端与所述缓冲区一侧外壁相连接，所述缓冲区顶部与所述竖向输送机构底部相连接，所述横向输送机构底部设置有第一支撑架，所述竖向输送机构底部设置有第二支撑架，且所述竖向输送机构靠近辐照机构顶部一侧设置有第一限位轮，所述第一限位轮底部与所述第二支撑架顶部相连接，所述缓冲区内部设置有推板组件，所述竖向输送机构远离缓冲区一侧外壁设置有辐照机构，所述辐照机构一侧底部设置有高度调节组件，所述竖向输送机构远离辐照机构一侧设置有限位组件，所述限位组件由电机、丝杆轴、丝杆螺母、连接杆、定位板、限位杆以及第二限位轮组成，所述电机设置在第二支撑架底部一侧，所述电机输出轴外壁连接有第一齿轮，所述丝杆轴一端通过轴承与所述第二支撑架一侧外壁相连接，所述丝杆轴靠近第二支撑架一端外壁设置有第二齿轮，所述第二齿轮与所述第一齿轮啮合连接，所述丝杆螺母设置在丝杆轴外壁，所述连接杆底部与所述丝杆螺母顶部固定连接，所述连接杆顶部与所述定位板底部固定连接，所述限位杆一端与所述定位板一侧外壁固定连接，且所述第二限位轮设置在限位杆远离定位板一侧。

优选的，所述限位杆与所述第二限位轮均设置有若干组，若干组所述限位杆与若干组所述第二限位轮一一对应连接，且若干组所述限位杆均匀设置在定位板一侧外壁。

优选的，所述横向输送机构采用输送辊轴，所述输送辊轴中间位置均设置有防滑垫。

优选的，所述竖向输送机构采用传送带机构，所述竖向输送机构一侧设置有辅助支撑架，所述辅助支撑架底部与所述第二支撑架一侧顶部相连接，所述辅助支撑架顶部与所述限位杆底部相接触。

优选的，所述高度调节由固定架、支撑杆、滑槽、第一气缸组成，所述固定架底部一端与所述第二支撑架一侧外壁固定连接，所述支撑杆设置在固定架顶部，所述支撑杆顶部与所述辐照机构一侧底部固定连接，所述滑槽开设在固定架远离第二支撑架内部，第一气缸设置在滑槽底部内侧。

优选的，所述第一气缸输出轴连接有滑板，且所述支撑杆底部贯穿滑槽顶部内壁与所述滑板顶部固定连接。