[实用新型]一种建筑用砖有效
申请号: | 202120364293.7 | 申请日: | 2021-02-07 |
公开(公告)号: | CN215253897U | 公开(公告)日: | 2021-12-21 |
发明(设计)人: | 周松 | 申请(专利权)人: | 广州美术学院 |
主分类号: | E04C1/00 | 分类号: | E04C1/00 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 谭志鹏 |
地址: | 510260 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 建筑 | ||
本实用新型公开了一种建筑用砖,包括砖体,砖体的顶面沿其长度方向均匀排列有多个第一凸条,任意两个相邻的第一凸条之间形成第一凹槽,砖体的底面沿其长度方向均匀排列有多个第二凸条,任意两个相邻的第二凸条之间形成第二凹槽,第一凸条的形状与第二凸条的形状相同,第一凹槽的形状与第二凹槽的形状相同,砖体内设置有浇注结构,浇注结构包括向下凹设于砖体顶面的收窄槽、设置于收窄槽底面的贯穿孔,本实用新型可减少砖体堆叠时的混凝土用量,两块砖体之间结合更加紧密,提高砌砖效率,并且在实际应用中可根据需要灵活使用,从而得出不到的受力结构,应用于不同的使用环境,实用性强。
技术领域
本实用新型涉及一种建筑材料,尤其涉及一种建筑用砖。
背景技术
砖是建筑行业的重要材料,使用规模较大,传统的砌砖方式为多块砖相互堆叠,需要在堆叠的砖块之间涂抹混凝土,以对堆叠的砖块进行相互固定,砖块之间的水泥增加了砖体之间的缝隙,导致两块砖体之间的距离增大,在涂抹水泥时,需要对水泥涂抹的厚度进行把控,避免不同压块之间水泥厚度不一,并且涂抹水泥亦需要时间,传统的堆砌方式难以进一步提高堆砌砖的效率。
实用新型内容
本实用新型目的在于提供一种建筑用砖,以解决现有技术中所存在的一个或多个技术问题,至少提供一种有益的选择或创造条件。
本实用新型解决其技术问题的解决方案是:
一种建筑用砖,包括砖体,所述砖体的顶面沿其长度方向均匀排列有多个第一凸条,任意两个相邻的所述第一凸条之间形成第一凹槽,所述砖体的底面沿其长度方向均匀排列有多个第二凸条,任意两个相邻的所述第二凸条之间形成第二凹槽,所述第一凸条的形状与所述第二凸条的形状相同,所述第一凹槽的形状与所述第二凹槽的形状相同,所述砖体内设置有浇注结构,所述浇注结构包括向下凹设于所述砖体顶面的收窄槽、设置于所述收窄槽底面的贯穿孔。
该技术方案至少具有如下的有益效果:在砌砖时,砖体上下堆叠,两个砖体之间可由凸条与凹槽之间相互配合,实现初步定位,减少砖体堆叠时的混凝土用量,两块砖体之间结合更加紧密,提高砌砖效率,并且由于砖体的顶面与底面均具有凸条与凹槽,而浇注结构包括收窄槽与贯穿孔,上下两个砖体在堆砌时,两个砖体内的浇注结构相互连通,当位于上层的砖体其收窄段与贯穿孔由上向下设置,同样的位于下层的砖体其收窄段与贯穿孔亦由上向下设置时,向浇注结构内浇注混凝土,混凝土在连续两个浇注结构内凝固,在下层砖体的收窄槽内凝固的混凝土会卡紧在上层砖体与下层砖体之间,难以脱出,从而进一步增加两个砖体之间上下连接的紧密性,而此时两个砖体的卡紧力主要位于砖体的顶侧,当位于上层的砖体其收窄段与贯穿孔由上向下设置,而位于下层的砖体其收窄段与贯穿孔由下向上设置时,向浇注结构内浇注混凝土,混凝土在连续两个浇注结构内凝固,在上层砖体的收窄槽内凝固的混凝土与在下层砖体的收窄槽内凝固的混凝土会卡紧上层砖体与下层砖体,此时两个砖体之间的卡紧力主要位于上层砖体的顶侧与下层砖体的底侧,当位于上层的砖体其收窄段与贯穿孔由下向上设置,而位于下层的砖体其收窄段与贯穿孔由上向下设置时,向浇注结构内浇注混凝土,混凝土在连接两个浇注结构内凝固,在上层砖体的收窄槽内凝固的混凝土与在下层砖体的收窄槽内凝固的混凝土会卡紧上层砖体与下层砖体,此时两个砖体之间的卡紧力主要位于上层砖体的底侧与下层砖体的顶侧,在实际应用中可根据需要灵活使用,从而得出不到的受力结构,应用于不同的使用环境,实用性强。
作为上述技术方案的进一步改进,所有的所述第一凸条与所有的所述第二凸条在竖直方向上相互错开。如此可实现两个砖体在上下堆叠时侧壁均位于同一个竖直面上。
作为上述技术方案的进一步改进,所述浇注结构还包括设置于所述砖体底面的凸环,所述凸环与所述收窄槽在竖直方向上相互正对,所述凸环的外径与所述收窄槽的顶端槽口外径相等。砖体上正对收窄槽的第一凸条为了对收窄槽的位置进行避让,均被切断镂空,形成避让部,避让部的内径与收窄槽顶端槽口的外径相等,上下堆砌的两个砖体之间,位于上层砖体的凸环与位于下层砖体的避让部相互配合,可实现两个浇注结构的精准对位,并且两个砖体连接更加紧密。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广州美术学院,未经广州美术学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202120364293.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种用于制备柔性防刺材料的成型装置
- 下一篇:一种自带密封功能的路边停车设备