[实用新型]一种基于曲面基板的全固态电致变色薄膜制作设备有效

专利信息
申请号: 202120366044.1 申请日: 2021-02-08
公开(公告)号: CN214694351U 公开(公告)日: 2021-11-12
发明(设计)人: 赵勇 申请(专利权)人: 苏州光昛智能科技有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C03C17/00;G02F1/15
代理公司: 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 代理人: 娄岳
地址: 215000 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 曲面 固态 变色 薄膜 制作 设备
【说明书】:

实用新型公开了一种基于曲面基板的全固态电致变色薄膜制作设备,包括多对能够沿自身轴线旋转的磁棒,以及套设在磁棒外的靶材;所述靶材能够相对磁棒进行旋转;磁棒转动时,能够在靶材与曲面基板之间形成位置连续变化且周期性变化的磁场。

技术领域

本实用新型涉及电致变色技术领域,具体涉及一种基于曲面基板的全固态电致变色薄膜制作设备。

背景技术

电致变色薄膜因为其独特的调光隔热特性,在建筑、交通乃至消费电子领域都开始得到越来越广泛的关注和应用。在多种电致变色技术中,无机全固态电致变色薄膜技术因为其优异的循环寿命和环境耐候性能,得到了更多的青睐。

常见的全固态电致变色薄膜的结构如图5所示,是由5个功能膜层组成的三明治结构,其依次为第一透明导电电极51、反向电致变色层52、离子导电层53、电致变色层54、第二透明导电电极55。当电压加载在两个透明导电电极之间时,全固态电致变色薄膜开始着色或则褪色。

当前的曲面玻璃电致变色镀膜还无可量产化技术方案,一是曲面玻璃需求的镀膜空间较大,当前传统镀膜线无法解决,二是曲面玻璃的各部分相对传统电极的距离变化较大,很难实现均匀镀膜。

实用新型内容

为解决上述技术问题,本实用新型提供一种基于曲面基板的全固态电致变色薄膜制作设备。

为解决上述技术问题,本实用新型采用如下技术方案:

一种基于曲面基板的全固态电致变色薄膜制作设备,包括多对能够沿自身轴线旋转的磁棒,以及套设在磁棒外的靶材;所述靶材能够相对磁棒进行旋转;磁棒转动时,能够在靶材与曲面基板之间形成位置连续变化且周期性变化的磁场。

进一步地,所述磁棒包括一对第一磁棒,所述靶材包括套设在第一磁棒外的第一透明导电电极靶材。

进一步地,所述磁棒包括一对第二磁棒,所述靶材包括套设在第二磁棒外的反向电致变色层靶材。

进一步地,所述磁棒包括一对第三磁棒,所述靶材包括套设在第三磁棒外的离子导电层靶材。

进一步地,所述磁棒包括一对第四磁棒,所述靶材包括套设在第四磁棒外的电致变色层靶材。

进一步地,所述磁棒包括一对第五磁棒,所述靶材包括套设在第五磁棒外的第二透明导电电极靶材。

与现有技术相比,本实用新型的有益技术效果是:

本实用新型在使用磁控溅射方法进行镀膜时,通过可旋转的磁棒,在靶材和曲面基板之间形成连续变化的磁场,使得靶材与曲面基板之间形成连续式多方位的等离子云,能够实现曲面玻璃和3D玻璃上的镀膜。

附图说明

图1为本实用新型曲面基板镀膜时的结构示意图;

图2为现有技术中平面基板镀膜时的流程图;

图3为现有技术中平面基板镀膜时的结构示意图;

图4为本实用新型曲面基板上完成镀膜后的结构示意图;

图5为电致变色薄膜的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的一种优选实施方式作详细的说明。

当前可供商用的无机全固态电致变色薄膜主要由磁控溅射镀膜获得。由于当前的磁控溅射镀膜工艺需要近300℃~400℃的工艺温度,所以可供镀膜选择的镀膜基板有限,目前可用的镀膜基板主要为各种厚度的高透明浮法玻璃基板。

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