[实用新型]用于还原炉钟罩清洗设备升降杆的气体密封结构

说明书

本实用新型公开了一种用于还原炉钟罩清洗设备升降杆的气体密封结构，涉及多晶硅生产技术领域，主要目的是改善对喷射水分的密封效果。本实用新型的主要技术方案为：用于还原炉钟罩清洗设备升降杆的气体密封结构，该结构包括：平台、导向套、升降杆和除水沟槽；所述平台设有中心孔；所述导向套固定设置于所述中心孔内；所述升降杆的一端连接于驱动机构，另一端贯穿所述导向套，所述升降杆的另一端连接喷嘴机构；所述除水沟槽螺旋设置于所述导向套的内表面，所述除水沟槽的槽口贴合于所述升降杆的轴向侧壁，用于形成除水通道，所述除水通道的进口端连接于气源，所述除水通道的出口端连接于排水管。

技术领域

本实用新型涉及多晶硅生产技术领域，尤其涉及一种用于还原炉钟罩清洗设备升降杆的气体密封结构。

背景技术

在多晶硅生产中每次完成一炉的硅棒生产后在重新装炉开始生产之前都需要对还原炉钟罩进行清洗，所以钟罩清洗装置是多晶硅生产中必不可少的设备。为达到更好的清洗质量现在最新型的清洗装置采用机械臂结构，可以实现对钟罩内壁不同结构不同部位采用不同的执行动作针对性进行清洗。清洗过程中需要升降机构带着高压喷嘴机构在钟罩内上下来回清洗将钟罩内壁清洗干净。清洗过程会产生酸性或碱性废水落至清洗装置平台底部通过下水孔排走。而升降机构的动力部分在清洗平台下部，喷嘴在清洗平台上部，升降机构动力部分通过一根长3.5M的升降杆连接喷嘴机构，该结构中的支杆需要垂直穿过平台中心后带动喷嘴机构完成对钟罩的清洗。所以升降杆和平台之间存在间隙容易让水漏至平台下部，导致平台下部的机械结构和电气部件受损。原有的处理方法是在该间隙处安装唇形密封圈防止泄露，由于清洗环境强酸强碱高温，同时还有升降杆的上下摩擦造成密封圈损耗快，密封圈平均使用寿命只有15天，密封效果差，设备故障率高，检修成本高，影响生产。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型提供一种用于还原炉钟罩清洗设备升降杆的气体密封结构，主要目的是改善对喷射水分的密封效果。

为达到上述目的，本实用新型主要提供如下技术方案：

本实用新型提供了一种用于还原炉钟罩清洗设备升降杆的气体密封结构，该结构包括：平台、导向套、升降杆和除水沟槽；

所述平台设有中心孔；

所述导向套固定设置于所述中心孔内；

所述升降杆的一端连接于驱动机构，另一端贯穿所述导向套，所述升降杆的另一端连接喷嘴机构；

所述除水沟槽螺旋设置于所述导向套的内表面，所述除水沟槽的槽口贴合于所述升降杆的轴向侧壁，用于形成除水通道，所述除水通道的进口端连接于气源，所述除水通道的出口端连接于排水管。

本实用新型的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。

可选的，所述除水通道的出口端和所述除水通道的进口端上下排列。

可选的，所述气源为氮气提供机构。

可选的，所述除水沟槽所形成的螺旋线圈数为三圈。

可选的，所述除水沟槽的宽度为10mm，所述除水沟槽的深度为5mm。

借由上述技术方案，本实用新型至少具有下列优点：

清洗设备在清洗钟罩的过程中，平台固定不动，升降杆在驱动机构的驱动作用下进行旋转升降运动，从而带动喷嘴机构旋转升降运动。在这个过程中，升降杆磨损密封圈，升降杆和密封圈之间的间隙变大，喷嘴机构喷出的水部分沿升降杆的轴向侧壁向下流动至间隙。但是由于气源产生的气体自进口端进入螺旋形的除水通道，并经出口端流出除水通道，从而带动向下流动的水沿除水通道流出至排水管，从而避免向下流动水分到达驱动机构的机械结构和电气设备，从而避免机械结构和电气设备被腐蚀，从而降低了设备的故障率。

附图说明

图1为本实用新型实施例提供的钟罩清洗装置的等轴立体图；