[实用新型]一种新型镀膜挡板装置及镀膜设备

说明书

本实用新型提供了一种新型镀膜挡板装置及镀膜设备，应用于镀膜设备中，所述镀膜挡板装置包括设置于镀膜设备蒸发源一侧的连接架，所述连接架包括固定底座和双旋转杆，所述双旋转杆与所述固定底座活动连接，使所述双旋转杆能够相对所述固定底座转动，所述双旋转杆上分别水平设置半椭圆形的第一挡板和第二挡板；其中，所述第一挡板和第二挡板在所述双旋转杆上设置的垂直高度不同。该装置易于拆卸安装，稳定性好，应用灵活，可以满足电子枪挡板的使用需求，又可以代替补偿挡板，满足镀膜生产需要。

技术领域

本公开涉及镀膜设备技术领域，尤其涉及一种新型镀膜挡板装置及镀膜设备。

背景技术

真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空电阻加热蒸发，电子枪加热蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积，离子束溅射等很多种。

真空镀膜设备中，放置被镀基片的基片架根据需要可采用挡板进行遮挡。挡板的作用是阻挡溅射物。现有镀膜设备中的补偿挡板机构大多数定位在镀膜真空室的侧壁上，在蒸镀过程中，补偿挡板升起，与侧壁成一定角度，使蒸镀到基板上的膜料更均匀。而由于挡板设置在真空室侧壁上，导致两侧补偿挡板的高度、角度调整难度较大，调整不够精准，安装和拆卸复杂，并且镀膜设备在蒸镀膜料过程中，挡板的位置会有小幅度变化，稳定性不够好，进而导致薄膜均匀性降低。

实用新型内容

有鉴于此，本公开实施例提供一种新型镀膜挡板装置及镀膜设备，该装置易于拆卸安装，稳定性好，应用灵活，解决现有镀膜设备的补偿挡板调整难度较大，安装和拆卸复杂，并且稳定性不佳的技术问题。

为了实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种新型镀膜挡板装置，应用于镀膜设备中，所述镀膜设备中包括蒸发源和设置于蒸发源上方的基片固定架，所述镀膜挡板装置包括设置于所述蒸发源一侧的连接架，所述连接架包括固定底座和双旋转杆，所述双旋转杆与所述固定底座活动连接，使所述双旋转杆能够相对所述固定底座转动，所述双旋转杆上分别水平设置半椭圆形的第一挡板和第二挡板；其中，所述第一挡板和第二挡板在所述双旋转杆上设置的垂直高度不同。

在一种优选的实施方式中，所述固定底座上开设两个凹槽，所述双旋转杆的底端分别位于两个凹槽中，并且与凹槽内壁活动连接。

在一种优选的实施方式中，所述凹槽内设置滚动轴承，所述滚动轴承的外环与所述凹槽的内壁固定连接，所述滚动轴承的内环与所述双旋转杆的底端固定连接，使所述双旋转杆与所述固定底座活动连接。

在一种优选的实施方式中，所述连接架还包括固定杆，所述固定杆的一端开设通孔，所述双旋转杆的顶端穿过所述通孔，使所述固定杆与所述双旋转杆固定连接，所述第一挡板和第二挡板分别固定在所述固定杆上。

在一种优选的实施方式中，所述第一挡板和第二挡板上分别固定设置至少一个卡箍，所述固定杆上对应设置至少一个与所述卡箍适配的卡槽，用于将所述卡箍在所述卡槽中紧固，使所述第一挡板和第二挡板分别固定在所述固定杆上。

在一种优选的实施方式中，所述固定杆和所述双旋转杆均采用金属材质制成，且所述固定杆和所述双旋转杆之间焊接固定。

本实用新型还提供一种镀膜设备，所述镀膜设备包括蒸发源和设置于蒸发源上方的基片固定架，还包括如上述的新型镀膜挡板装置。

本实用新型的一种新型镀膜挡板装置及镀膜设备，其有益效果在于：该新型镀膜挡板装置起到电子枪挡板和补偿挡板双重作用。本装置简单，易于实现，易于拆卸安装，稳定性好，能够有效降低不可控因素。该新型镀膜挡板装置在简化了镀膜设备真空室内结构的基础上，还保证了镀膜机的膜层均匀性，满足镀膜生产需要。

附图说明