[实用新型]一种镀膜蒸发辅助装置及镀膜设备

说明书

本实用新型提供了一种镀膜蒸发辅助装置及镀膜设备，该装置包括：设置在所述镀膜设备蒸发源正上方的同心圆环板，所述同心圆环板由包括多个半径依次增大的圆环同圆心固定连接形成；其中，从所述同心圆环板的内圈至外圈，相邻所述圆环的半径差依次减小。该装置使得镀膜真空室内不需要使用补偿挡板，蒸发出来的膜料通过该辅助装置后，能够平行蒸镀到基板上，有效提高膜厚均匀性。

技术领域

本公开涉及镀膜机设备技术领域，尤其涉及一种镀膜蒸发辅助装置及镀膜设备。

背景技术

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。

镀膜机蒸发一般是通过点蒸发源蒸发到基板上，有很大的蒸发角，向四周发散蒸发，如图1所示，到伞架后蒸镀的膜厚也不一致，必须使用补偿挡板来进行修正，修正挡板的设置位置、厚度、形状等都是影响膜厚均匀性的关键因素，而传统的修正挡板依然存在由于设计缺陷导致的膜厚均匀性不佳的问题。

实用新型内容

有鉴于此，本公开实施例提供一种镀膜蒸发辅助装置及镀膜设备，该装置使得镀膜真空室内不需要使用补偿挡板，蒸发出来的膜料通过该辅助装置后，能够平行蒸镀到基板上，膜厚均匀。

为了实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种镀膜蒸发辅助装置，应用于镀膜设备中，包括：设置在所述镀膜设备蒸发源正上方的同心圆环板，所述同心圆环板由包括多个半径依次增大的圆环同圆心固定连接形成；其中，从所述同心圆环板的内圈至外圈，相邻所述圆环的半径差依次减小。

在一种优选的实施方式中，从所述同心圆环板的内圈至外圈，所述圆环的宽度依次减小。

在一种优选的实施方式中，还包括固定架，所述固定架包括底座，所述底座上垂直固定支撑杆，所述支撑杆上水平固定连接杆；所述圆环依次同圆心固定在所述连接杆上，形成所述同心圆环板。

在一种优选的实施方式中，所述固定架和所述圆环均采用金属材质制成，所述圆环焊接在所述连接杆上。

在一种优选的实施方式中，所述底座为圆环形，所述镀膜设备蒸发源位于所述底座的圆心处。

在一种优选的实施方式中，所述镀膜设备蒸发源为点蒸发源。

本实用新型还提供一种镀膜设备，所述镀膜设备包括蒸发源和设置于蒸发源上方的基片固定架，还包括如上述的镀膜蒸发辅助装置。

本实用新型的一种镀膜蒸发辅助装置及镀膜设备，其有益效果在于：本实用新型通过在蒸发源上面加一个同心圆环机构，使得在镀膜过程中，不需要再使用补偿挡板，蒸发出来的膜料通过该同心圆环机构后，能够平行蒸镀到基板上，有效提高膜厚均匀性。

附图说明

为了更清楚地说明本公开实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1为现有的镀膜机蒸镀真空室结构示意图；

图2为本实用新型的镀膜设备真空室结构示意图；

图3为本实用新型的同心圆环板俯视结构示意图；

图4为本实用新型的固定架结构示意图；

图5为本实用新型的同心圆环板数学模型示意图；

图6为A镀膜机与B镀膜机蒸镀的膜厚示意图；