[实用新型]一种抛光装置有效

专利信息
申请号: 202120416358.8 申请日: 2021-02-25
公开(公告)号: CN214519564U 公开(公告)日: 2021-10-29
发明(设计)人: 许亮;陈永福;魏熙阳;罗小百 申请(专利权)人: 宇环数控机床股份有限公司
主分类号: B24B41/04 分类号: B24B41/04;B24B47/12
代理公司: 长沙新裕知识产权代理有限公司 43210 代理人: 刘熙
地址: 410323 湖南省长*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 一种 抛光 装置
【说明书】:

实用新型公开了一种抛光装置,包括抛光输出轴、与所述抛光输出轴一端固连的偏心轴承座、通过轴承安装在偏心轴承座上的用于安装抛光盘的自转转轴,还包括与抛光输出轴同轴安装的内齿轮、用于固定内齿轮的齿轮座、固定在自转转轴上与自转转轴同轴的外齿轮,所述自转转轴与抛光输出轴相互平行但不同心,偏心距为N,所述内齿轮为固定齿轮,所述外齿轮与内齿轮啮合并沿内齿轮的内齿滚动,所述外齿轮和内齿轮的中心距等于所述自转转轴与抛光输出轴的偏心距N。本实用新型通过内外齿轮的相对滚动使得自转转轴的自转速度始终被控制,从而获得稳定的自转速度,抛光盘的转速不会因为打磨压力大小而产生变化,可提高抛光效率。

技术领域

本实用新型属于抛光设备,具体涉及一种抛光装置。

背景技术

传统偏心抛光装置由偏心轴承座及安装在偏心轴承座上的自转转轴两部分组成,偏心轴承座连接抛光输出轴,自转转轴连接抛光盘及耗材。抛光时,抛光输出轴带动偏心轴承座高速转动,由于抛光盘自身的惯量和偏心量的作用,抛光盘在做偏心公转的同时也产生自转运动,无驱动力带动,这种结构使得抛光盘的自转速度会受到打磨抛光压力变化的影响,抛光压力大则抛光盘的自转速度小,反之抛光盘的自转速度大,导致抛光效率不高。

实用新型内容

本实用新型的目的是针对现有曲面抛光技术存在的不足,提供一种压力稳定且可精密调节的抛光装置。

实现本实用新型目的采用的技术方案如下:

本实用新型提供的抛光装置,包括抛光输出轴、与所述抛光输出轴一端固连的偏心轴承座、通过轴承安装在偏心轴承座上的用于安装抛光盘的自转转轴,还包括与抛光输出轴同轴安装的内齿轮、用于固定内齿轮的齿轮座、固定在自转转轴上与自转转轴同轴的外齿轮,所述自转转轴与抛光输出轴相互平行但不同心,偏心距为N,所述内齿轮为固定齿轮,所述外齿轮与内齿轮啮合并沿内齿轮的内齿滚动,所述外齿轮和内齿轮的中心距等于所述自转转轴与抛光输出轴的偏心距N。

本实用新型还包括机架,所述内齿轮通过齿轮座固定在机架的一侧,所述抛光输出轴的另一端穿过机架与设在机架另一侧旋转驱动装置连接。

所述自转转轴与抛光输出轴的偏心距N可根据所述外齿轮和内齿轮的中心距进行调节。

有益效果

本实用新型由于在自转转轴上设置外齿轮与固定的内齿轮啮合沿内齿轮的内齿滚动,抛光时,抛光输出轴通过偏心轴承座带动自转转轴和外齿轮在做偏心公转的同时也产生自转运动,外齿轮自转和公转时其外齿始终与内齿轮的内齿啮合,内外齿轮的相对滚动使得自转转轴的自转速度始终被控制,从而获得稳定的自转速度,抛光盘的转速不会因为打磨压力大小而产生变化,可提高抛光效率。

下面结合附图进一步说明本实用新型的技术方案。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

图2是本实用新型中内齿轮与外齿轮配合的示意图。

具体实施方式

见图1、图2,本实用新型提供的抛光装置,包括机架9、固定在机架9上的抛光输出轴2、与抛光输出轴2同轴安装的内齿轮5、用于固定内齿轮5的齿轮座1,所述抛光输出轴2一端固定有偏心轴承座3,偏心轴承座3通过轴承8安装有与抛光盘6连接的自转转轴7,所述自转转轴7与抛光输出轴2相互平行但不同心,偏心距为N,抛光输出轴2的另一端穿过机架9与设在机架9另一侧的旋转驱动装置连接;所述内齿轮5通过齿轮座1固定在机架9的一侧,所述自转转轴7上固定有与自转转轴7同轴的外齿轮4,所述内齿轮5为固定齿轮,所述外齿轮4通过外齿与内齿轮5的内齿啮合沿内齿轮5的内齿滚动,外齿轮4和内齿轮5两个齿轮的中心距等于所述自转转轴7与抛光输出轴2的偏心距N,所述自转转轴7与抛光输出轴2的偏心距N可根据所述外齿轮4和内齿轮5的中心距进行调节。

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