[实用新型]一种带超声波清洗的等离子处理装置有效
申请号: | 202120421151.X | 申请日: | 2021-02-26 |
公开(公告)号: | CN214715403U | 公开(公告)日: | 2021-11-16 |
发明(设计)人: | 王毅;沈晓辉;李晓阳 | 申请(专利权)人: | 中睿达智能环保科技有限责任公司 |
主分类号: | B01D50/00 | 分类号: | B01D50/00;B01D53/32;B01D53/04;B01D53/26;B01D53/78;B01D53/40;B01D53/42 |
代理公司: | 郑州中鼎万策专利代理事务所(普通合伙) 41179 | 代理人: | 黄照倩 |
地址: | 450000 河南省郑州市高新区西三环路2*** | 国省代码: | 河南;41 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 超声波 清洗 等离子 处理 装置 | ||
1.一种带超声波清洗的等离子处理设备,其特征在于,包括:
废气处理箱,包括箱体、连接在箱体前端的前端盖和连接在箱体后端的后端盖,前端盖上设有废气进口,后端盖上设有与废气进口对应的废气出口,箱体内自前向后依次设置有过滤区、干燥区、等离子超声波处理区、吸附区,过滤区内储存有纯净水,纯净水的液面低于废气进口和废气出口的高度,前端盖的底部设有抽水孔,干燥区内充满干燥剂,吸附区内充满活性炭,等离子超声波处理区内设置有固定架;
气体分布器,设置在过滤区内并与废气进口相对,气体分布器的底端高于纯净水的液面,气体分布器上沿箱体的高度方向上下间隔设置有多个气嘴;
喷水组件,与气体分布器固定连接,设置在过滤区内,沿箱体的高度方向上下间隔设置有多级,每一级喷水组件与气体分布器上的气嘴一一对应,每一级喷水组件均包括水槽和设置在水槽底部并与水槽连通的喷淋器,喷淋器沿水槽的长度方向间隔设置有多个,气嘴对应设置在喷淋器的下方;
抽水泵,抽水泵一侧通过抽水管与所述抽水孔连接,抽水泵另一侧连接有出水管,出水管的出水口伸入到箱体内且位于顶部的水槽上方;
等离子电极,包括与固定架固定连接的石英板以及通过绝缘材料固定在石英板上的高压正电极和高压负电极,高压正电极和高压负电极的其中一端均与设备电源电连接,高压正电极和高压负电极的另外一端通过绝缘材料均连接有超声波换能器;
颗粒收集槽,设置在等离子电极的下方,并与所述箱体可拆连接;
废气氧化吸收塔,设置在废气处理箱的后侧,废气氧化吸收塔的顶部设有进气口,底部设有排气口,废气氧化吸收塔内自上至下依次设有臭氧氧化水喷淋组件、酸性溶液喷淋组件和碱性溶液喷淋组件;
抽气泵,设置在所述后端盖顶部,一端通过抽气管与箱体内的空间连通,一端通过出气管与所述进气口连通。
2.根据权利要求1所述的带超声波清洗的等离子处理设备,其特征在于,所述喷水组件包括底板和挡板,底板的左右两端均顶靠在箱体的对应箱壁上,底板的前端与气体分布器固定连接,挡板连接在底板的后端并与气体分布器平行设置,底板、挡板、气体分布器以及箱体对应的两个箱壁围成所述水槽。
3.根据权利要求1所述的带超声波清洗的等离子处理设备,其特征在于,所述前端盖包括截面为等腰梯形的梯形盖体和设置在梯形盖体上下两侧的与箱体连接的连接板,气体分布器的内径与梯形盖体的最大内径相同,前端盖的梯形盖体内径自前向后逐渐增大,后端盖为高度小于箱体高度的矩形盖。
4.根据权利要求1-3任意一项所述的带超声波清洗的等离子处理设备,其特征在于,所述高压正电极和高压负电极均呈锯齿状。
5.根据权利要求1-3任意一项所述的带超声波清洗的等离子处理设备,其特征在于,等离子电极设有两组,两组等离子电极沿前后方向间隔布置。
6.根据权利要求5所述的带超声波清洗的等离子处理设备,其特征在于,等离子超声波处理区内设有两块在前后方向间隔且相对布置的挡块,两挡块的相对的面均为斜面,两挡块之间形成自上至下内径逐渐减小的颗粒收集空间,两组等离子电极位于颗粒收集空间的上方,所述颗粒收集槽与所述颗粒收集空间连通。
7.根据权利要求6所述的带超声波清洗的等离子处理设备,其特征在于,所述颗粒收集槽与箱体螺纹连接。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中睿达智能环保科技有限责任公司,未经中睿达智能环保科技有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202120421151.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种均匀控制的等离子蚀刻装置
- 下一篇:一种小麦抗倒伏装置